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第2章 常用复杂控制系统 一般情况下，单回路控制系统都能满足大部分生产控制要求。但当被控对象的容量滞后比较大，负荷变化比较剧烈、频繁，或者工艺对产品质量要求很高，此时单回路控制系统就很难满足控制要求，这就需要设计复杂的控制系统对生产流程加以控制。 复杂控制系统种类繁多，根据系统的结构和所负担的任务来说，常见的复杂控制系统分为两大类：①提高响应曲线性能指标的控制系统，如串级、前馈、纯滞后补偿等。②按某些特定要求而开发的系统，如比值、均匀、分程、选择、推断等。 2．1 串级控制系统 2.1.1串级控制系统基本概念 为了认识串级调节系统，先详细地介绍一下氧化炉温度调节（见图2.1-1）。 在硝酸生产中，氧化炉是关键设备之一，氨气和空气在铂触媒的作用下，在氧化炉内进行氧化反应： 4NH3+5O2→4NO+6H2O+Q 反应结果得到NO气体。工艺要求：氧化率达到97%以上，为此要将氧化炉温度控制在8405oC。 方案①（如图2.1）温度单回路调节系统，最大偏差为10 ℃手动时最大偏差20～30 ℃），偏差较大的 图2.1-1 氨氧化过程的温度控制 原因是，温度单回路调节系统虽包括了全部扰动，但调节通道滞后大，对于氨气总管压力和流量的频繁变化，不能及时克服。 方案② 氨气流量调节系统，工艺提供氨气流量变化1%，氧化炉温度变64 oC，设计氨气流量调节系统能迅速克服氨气流量的干扰，这样把氨气流量变化克服在影响反应温度之前，但偏差仍达8oC。这是因为氧化炉还存在其他干扰：如空气量，触煤老化等问题。 方案③ 温度为主参数，流量为付参数的串级调节系统。由温度调节器来决定氨气 的需要量，而氨气的需要量是由流量调节系统来决 定的，即流量调节器的给定值由温度调节器的需要来决定：（ⅰ）变还是不变 （ⅱ）变化多少 （ⅲ）朝哪个方向变。因此出现了反应温度信号自动地校正流量调节器给定值的方案，即串级调节系统（如图2.2所示）。 串级调节系统的结构特点：两个调节器，两个 变送器，一个调节阀，主调节器的输出作为付调节 图2.1-2 串级调节系统原理图 器的给定，付调节器输出到调节阀。 方块图及常用名词 串级调节系统中常用的几个术语：串级调节系统的方块图如图2.3所示。 图2.1-3串级调节系统的方块图 主参数（主被控变量）：生产工艺过程中主要控制的工艺指标，在串级调节系统中起主导作用的那个被调参数即为主参数，如氧化炉反应温度。 副参数（付被控变量）：影响主参数的主要变量和中间变量（如上述系统的氨气流量）。 主被控对象（）：为生产中所要控制的，由主参数表征其主要特性的工艺生产设备（如氧化炉）。一般指副参数检测点到主参数检测点的全部工艺设备。 副被控对象（）：调节阀到付参数测量点之间的工艺设备。 主调节器（）：在系统中起主导作用，为恒定主参数设置的调节器。主调节器，按主参数与给定值的偏差而动作，其输出作为付参数的给定值。 副调节器（）：给定值由主调节器的输出所决定，输出直接控制阀门。 主回路：把付回路等效起来看的整个回路 副回路：断开主环时，由付调节器，调节阀，付对象，付测量元件组成的内环 2.串级调节系统的工作过程（以氨氧化炉反应温度与流量串级调节系统为例） 1）干扰作用于付回路（设氨气流量干扰F2增加）时，如图2.1-4所示 图2.1-4 干扰进入副回路串级调节系统方框图 开始：假设付回路给定值不变，氨气流量干扰F2使氨气流量增加，流量调节器（反作用）输出减小，从而使调节阀开度（气开阀）减小，通过付回路的调节，最终使氨气流量恢复到给定值。 继而：由于氨气流量增加进入主回路后，使氧化炉的温度增加，温度调节器（反作用）输出减小，也就是流量调节器给定值减小，由于流量调节器为反作用，因此输出到调节阀膜头信号减小，这样引起调节阀开度减小，使氨气流量减小，通过主回路的调节，最终使氧化炉的温度恢复到给定值。 通过上述的调节可看出：当干扰进入副回路，由于主、付回路的共同作用（作用方向相同，都是使氨气流量调节阀开度减小），使付调节器的给定与测量两方面变化加在一起，加速了克服干扰的能力（如图2.1-6所示）。 2)干扰作用于主回路（设空气流量干扰F1增加）时，如图2.1-5所示 图2.1-5 干扰进入主回路串级调节系统方框图 当空气流量受干扰作用增加时，造成氧化