Cu掺杂对ZnO纳米薄膜的结构及其光学特性的影响.pdfVIP

第 46卷 2010年第 1期 西 北 师 范 大 学 学 报 (自然科学版) V0l_46 2O10 No．1 JournalofNorthwestNormalUniversity (NaturalScience) 37 Cu掺杂对 ZnO纳米薄膜的结构 及其光学特性的影响 马书懿 ，毛雷鸣 ，马 慧 ，史新福 ，周婷婷 ，丁继军 (1．西北师范大学 物理与电子工程学院，甘肃 兰州 730070； 2．巢湖学 院 物理与电子科学系，安徽 巢湖 238000) 摘 要：采用磁控溅射法 (RF)在玻璃基底上制备 了未掺杂和不 同Cu掺杂浓度 的 ZnO薄膜．使用 x射线衍射仪 (XRD)、原子力显微镜 (AFM)、扫描 电子显微镜(SEM)分别对样品的形貌进行 了表征，并对 ZnO薄膜进行 了应力分 析．结果显示 ：所有样品都呈现 出(002)衍射峰，有较好的C轴择优取向；所有样品出现有 3个发光峰，分别对应于 400nm(3．14eV，紫光)，444nm(2．78eV，蓝光)，484nm(2．56eV，蓝光)．紫峰的存在与激子的存在有极大关系，而 蓝光发射主要是由于电子从导带上 向锌空位形成 的浅受主能级上 的跃迁．随着Cu掺杂量的增加 ．薄膜 的带隙宽度 E 随之减小，样品光学带隙值 由3．26eV逐渐减小为2．99eV．实验 中还发现 ，随着Cu掺杂量增加，薄膜的透射率也随 之减 小． 关键词 ：AFM；光致发光 ；Cu掺杂 zn0薄膜 ；光学带隙；透射 中图分类号 ：O484．4—1 文献标识码 ：A 文章编号 ：1OO¨1-988X (2O1o)O10037-06 StudyofstructureandopticalpropertiesofCu—dopedZnO nanofilmspreparedbyRFmagnetronsputtering MA Shu—yi，MAO Lei—ming ，MA hui，SHIXin—fu ，ZHOU Ting—ring ．DINGJi～jun (1． CollegeofPhysicsandElectronicEngineering，NorthwestNormalUniversity，Lanzhou730070，Gansu，China； 2．DepartmentofPhysicsandElectronicTechnology，ChaohuUniversity，Chaohu238000，Anhui，China) Abstract：ZnO films doped with different Cu concentration are prepared on glass substrate by RF magnetronsputtering system． Thestructuralandmorphology ofthesamplesareinvestigatedby X—ray diffraction(XRD)，atomicforcemicroscopy(AFM )and scanning electron microscopy(SEM )，and the stressintheZn0 thinfilmsiSanalyzed． Theresultsshow thatal1thesampleshaveastrongdiffraction peak andhigh preferentialorientation in the(002)crystallographicdirection． Three peakshavebeen observedfrom thePLspectraoftheal1samples，395nm (3．14eV，violet)，446nm (2．78eV，blue)and488 nm (2．54eV ，blue)． ItiSconcludedthatthevioletpeakmaycorrespondtotheexcitonem ission．theblue emissioncorresponds