一种去除化学机械抛光后残留有机物的新方法.pdfVIP

第 18卷 第 1期 电子设计工程 2010年 1月 V01．18 No．1 E]ectronicDesignEngineering Jan．2010 一 种去除化学机械抛光后残留有机物的新方法 武彩 霞，刘玉岭 ，刘效岩 ，康海燕 (河北工业大学 微 电子研 究所．天津 300l3O) 摘要：提 出硅片化学机械抛光后表面残留的有机物污染，介绍金刚石膜 电化学合成过氧化物的方法与原理 。根据有 机物易被氧化分解的特性 ．采用金 刚石膜 电化学法合成过氧化物 ，利用过氧化物 的氧化性氧化分解硅片化学机械抛 光后表面的有机物残留配合特选 的表面活性剂，并加超声清洗 ，物理化学方法结合 ，从而达到去除有机物污染的 目 的。实验表 明，利用金刚石膜 电化学法合成的过氧化物配合特选的表面活性剂作为清洗试剂 ，加超声进行清洗 ，能够 有效去除硅片化学机械抛光后表面的有机物残留，达到较好的清洗效果。 关键词：电化学合成：表面活性剂 ：有机物 ：过氧化物 ：超声清洗 中图分类号：TN305．97：TM914．4 文献标识码 ：A 文章编号 ：1674—6236(2010)01—0106—02 A new methodofwipingoff residueorganicmatterinPost-CM Pcleaning WU Cai—xia．LIU Yu—ling．LIUXiao—yan，KANG Hai—yan (InstituteofMicroelectronics，HebeiUnwemityofTechnology，Tianjin300130，China) Abstract：ResidueorganicmatterpollutionisintroducedinPost-CMP．Thetheoryoftheoxidabilityofperoxidesynthesized bytheBDD anodesusedintheelectrochemicalisintroduced．Accordingtothecharacteristicoforganicmatterisliabletobe oxygenatedanddecomposed，usingtheoxidabilityofperoxidesynthesizedbytheBDDanodesusedintheelectrochemicalto oxidativedecomposesresidueorganicmatterandcoordinateswithultrasoniccleaning，combiningwithphysicalandchemical method，thusachieves，the goalofwiping off residue organic matter．The experimentsshow peroxide addingto selecting surfaceactiveagentusesascleaningagent，plusultrasoniccleaning， SOastowipeoff residueorganicmattereffectively in Post—CMPandrealizethebettereffectsofcleaning． Keywords：electrochemicalsynthesis；surfaceactiveagent；organicmatter；peroxide；ultrasoniccleaning 化学机械抛 光技术 已成为全 局 整化 的主流技 术之 一 P04一的氧化性用 FeSO 溶液和 KMnO 溶液标定 方法如 … 化学机械抛光后 的颗粒 、有机物 、金属离子等污染物会对 。 下 ：配置标准浓度 的 KMnO 溶液和 FeSO 溶液 。取 30m