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- 2017-08-27 发布于广东
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超纯氨(99.99999%)净化技术的最新研究进展
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刖‘. 吾 制造技术将发生质的飞跃,其上端原材料的氨必须
达到超高纯度,否则 及 将出现 “无米之
在半导体生产工艺中,氨, 同硅烷
炊”的境地,为此,发达国家总是作到 “兵马未
一
起发生反应生成氮化硅膜;在 设备上,
动材料先行”,在这一点上同我国形成了巨大的反
氨同三甲基镓作用在蓝宝石上通过汽相生长形成氮
差。为了将氨提纯到 见表 所示 ,近几年
化镓发光二极管即。随着微电子产业的迅猛
出现了许多先进净化技术。为便于了解国内外 ,
发展,特大规模集成电路及发光二极管
净化技术的发展方向,对此方面内容进行论述。
表 国外某公司 “白氨”纯度指标 . % ‘,超纯氨净化技术 化学法除水
. 化学法 在氨产品中对芯片影响最大的当数 、收稿日期: ? ?维普资讯 ////. 低温与特 气 第 卷
杂质。利用杂质的化学性质,通过化学反应达到除 采用精馏技术,若不考虑产品的收率,在理论
上可将氨中的 :除到 “ ”水平,然而由于气
:、 : 的目的,由于所用的物质化学性质较强,
体在充装时及气瓶处理不净,产品经常被沾污,因
因此,可将 ,中 : 净化到 “ ”水
此,在充装前常采用终端净化装置来脱除 :、
平。常用于除水的反应试剂有 :、
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