CVD聚合制备聚(羟甲基对亚苯基二亚甲基)及其性能的研究.pdfVIP

浦鸿汀等：CVD聚合制备聚(羟甲基对亚苯基二亚甲基)及其性能的研究 109 CVD聚合制备聚(羟甲基对亚苯基二亚甲基)及其性能的研究。 浦鸿汀，孙霞容 (同济大学材料学院功能高分子所，上海200092) 摘要： 用化学气相沉积(CVD)聚合法制备了聚(羟 2 实 验 甲基对亚苯基二亚甲基)(PPx_HM)膜，采用FTIR和 元素分析的方法证实了其化学结构。对膜溶解性和抗 2．1 羟甲基对亚苯基二亚甲基二聚体的合成和CVD 化学氧化性能的研究表明PPx-HM膜具有优异的耐 聚合 溶剂性和抗化学氧化性能。对PPx-HM膜热性能的 如图1所示羟甲基对亚苯基二亚甲基二聚体 研究表明羟甲基的引入使得膜的玻璃化转变温度降 低，室温柔性增强，动态力学阻尼性能增大，热降解起 始温度比聚对亚苯基二亚甲基(PPX)低，但主链降解 温度比PPX反而高出约50℃。此外，羟甲基的引入使于四氢呋喃中，加入四氢铝锂的四氢呋喃溶液作为催 得膜的亲水性能大幅度提高，水汽透过性能也有所提 化剂，在冰浴中搅拌反应24h后，用硫酸酸化，真空浓 高。 缩得到粗产品，进一步纯化得到DPX-HM。 关键词：化学气相沉积聚合；聚对亚苯基二亚甲基； 聚(羟甲基对亚苯基二亚甲基)；亲水性；水 汽渗透性 中图分类号：TQ316．33 文献标识码：A 圈l 文章编号：1001—9731【2006)01—0109—04 合成 1 of FigSynthesis 1 引 言 phane(HMPX) 采用本实验室自行研制的CVD聚合装置制备聚 采用化学气相沉积(CVD)聚合得到的聚对亚苯基 二亚甲基(PPX)具有优异的热稳定性、低的介电常数 和损耗因子、良好的耐溶剂性和化学惰性、优良的机械 的聚合原理如图2所示。沉积区真空度为1．3× 性能等特点，作为一种特殊的赋形涂覆材料，可获得完 全无针眼的涂层，可涂覆微细、形状复杂的工件，并与 积区分为两段，前半段温度为60℃，后半段温度为室 温。高温区沉积的膜即为所需的PPx-HM膜。 被涂工件外形完全一致[1~3]。近年来PPX的应用在 欧美国家得到了迅速发展，在电子电路组件、微电子集 成电路、微电子机械系统、传感器、生物医用材料、磁性 材料等领域出现了不少新的应用[4~8]，PPX的化学惰 性使其作为保护涂层是合适的。近年来PPx涂层表 面的功能化日益引起人们的重视，通过在聚合前预先 将可反应性基团引入苯环作为侧基，聚合后经进一步 的高分子反应可赋予其一定的功能性。如将氨基、二 羧酸酐、羧基等引人对亚苯基二亚甲基类聚合物的侧 图2 PPX_HM的合成 2 ofPPX—HM 基，可将其与生物活性分子反应进一步赋予其生物活 FigSyntheticdiagram 2．2膜性能的表征 性(。~1¨。本文通过CVD聚合的方法制备表面带活性 基团的聚(羟甲基对亚苯基二亚甲基)(PPⅪHM)膜，采用Nicolet 并研究其结构与性能。羟甲基的引入对于涂层表面的 进一步改性会是十分有用的。