第六章真空与等离子体.pptVIP

第六章 工艺腔内的气体控制 ——真空和等离子体 真空 等离子体 §6.1真空 工艺腔：一个受控的真空环境，使得化学反应能够在受控的环境下进行。 20世纪80年代后期，工艺腔被构造成为多腔集成设备。 工艺腔功能: 控制环境（去除杂质、创建化学反应的环境）； 控制原材料的流入，化学反应的位置； 控制反应的开始和结束。 多腔集成设备 不同工艺所需要的真空范围 低级真空（0.1～760T） 中级真空（10-4～10-1T） 高级真空（10-8～10-4T） 超高级真空（〈10-8T） §6.2 等离子体 什么是等离子体？ 等离子体是如何产生的？ 等离子体有什么作用？ 等离子体 等离子体 一、什么是等离子体？ 等离子体定义：等离子体是一种中性、高能量、离子化的气体。 等离子体中包括：中性原子或分子、带电离子、自由电子。 二、等离子的产生 离子的形成：当从中性原子中去除一个价电子时，形成正离子和自由电子。例如，当原子结构内的原子和电子数目相等时氟是中性的，当一个电子从它的核内分离出去后氟就离子化了。 离子的形成 等离子体的产生 等离子体的产生： 在一个有限的工艺腔内，利用强直流或交流磁场或用某些电子源轰击气体原子都会导致气体原子的离子化。 直流辉光放电 产生：真空环境下，当施加电能时，混合气体中的自由电子在电场作用下加速运动， 在运动过程中与气体原子或分子发生碰撞，从而导致气体原子或分子离化 。 2.射频放电 等离子体的自偏压 三、等离子体的作用 电子与原子碰撞后发生的反应： 1.裂解：e-+AB A+B+e 2.离化：e-+A A++e+e 3.激发：e-+A A*+e 等离子体在半导体工艺中的应用 化学气相淀积（CVD） 刻蚀 物理气相淀积（PVD） 离子注入 剥离光刻胶 清洗 * * 装/卸台 硅片控制臂 硅片定向器 工艺腔 固体 冰 液体 水 固体 水蒸气 固体 等离子体 00C 1000C 100000C 宇宙中99%的物质都是等离子体,太阳、恒星、星际物质…… F +9 离子是质子（＋）与电子（－）数不等地原子 电子从主原子中分离出来. 少一个电子的氟原子 到原子失去一个电子时产生一个正离子 F +9 具有质子（＋9）和电子（－9）数目相等地中性粒子是原子 氟原子总共有7个价电子 价层环最多能有8个电子 价层电子 （－） 内层电子（－） 在原子核中的质子（未显示电子） 射频频率一般为13.25MHz，400KHz，2MHz，4MHz，2.45GHz RF功率决定离子的能量和密度。