AZ91D镁合金微弧氧化工艺参数研究.pdfVIP

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2017-08-20 发布于安徽
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AZ91D镁合金微弧氧化工艺参数的研究阎峰云1 范松岩2 强旭东1 张文群2 (1．兰州理工大学甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室； 2．兰州理工大学有色金属合金及加工教育部重点实验室) 摘要微弧氧化技术是一种在金属表面原位生长陶瓷膜的先进成形技术，是镁合金表面处理技术的重点发展方向。微弧氧化过程复杂，选择合适的工艺参数，优化工艺过程．对进一步提高膜层的性能来说至关重要。本课题通过试验研究了电流密度、占空比、频率和氧化时间对AZ91D镁合金陶瓷膜性能的影响，对工艺参数进行了优化。试验结果表明，AZ91D镁合金微弧氧化最佳的工艺参数：电流密度为1．oA／dm2、频率为600Hz、占空比为20％、微弧氧化时间为20min。关键词微弧氧化；镁合金；AZ91D；工艺参数中图分类号TQl53．6；TGl46．2+2文献标志码 A文章编号 2008(s)一Oz40—03 The on researchtechnical OfAZ91D parametersOptimizationMagnesium Micr俨arc Allov Oxidation YAN Feng—yunl，FAN Xu—dOn91，ZHANG SOng—yan2，QIANG Wen—qun2 (1．State ofGansuAdvancedNon—ferrousMetal KeyLaboratory Materials， Lanzhou of 730050 UniversityTechnology，Lanzhou of ofNon—ferrousMetal and Education， 2．KeyLaboratory AlloysProcessing，TheMinistry Lanzhou of University 730050) Technology，Lanzhou oxidationisanadvancedsurface treatment of ceramic Abstract：Micro—arc protective technologyforming onthemetals．Itisa directionof surfacetreatment coatings development magnesiumalloy technology． The oxidationis andchooses ofⅣIicro—arc suitable processes complicated processparameters，andopti— mizethe tofurther the oftheoxidationisessential．Inthis process impr