薄膜沉积的影响因素与修正方法的研究.pdfVIP

五省一市光学联合年会、十三省市光学联合年会论文集（江西光学学会汇编） 薄膜沉积的影响因素和修正方法的研究 赵升林、孙龙 ( 河南中光学集团 河南 南阳 473003) 摘要:通过对镀膜过程的监测、数据采集与整理，建立数学模型并在 matlab 软件下的算 法仿真与分析，对影响镀膜过程、镀膜质量的几个关键因素产生的原因进行了查找与分析，设 计相应的解决方案，并且提出了一个膜系的偏差评价函数，这个函数可以综合评价镀膜的实际 结果和目标结果的偏差，从而修正后续镀制的膜层。 Abstract ：Through the monitoring, data logging and analysis to the thin film coating process and the algorithm simulation and analysis to the data under matlab software，the thesis analyzes the important factors which affect the thin film coating process and thin film quality and designs the solution to those problems. A Merit Function of Deviation for the thin film is proposed by the thesis. The function calculates the deviation between the practical coating result and the preset values. Thus the subsequent coating process is corrected 关键词:薄膜沉积 沉积因素 膜厚偏差 波长漂移 反射率偏差 误差修正 实时折 射率 Key Words: thin film deposition; deposition factor; thickness deviation; wavelength shift; reflectivity deviation; error correction; real-time refractivity 引言 随着光学镀膜产品应用领域的不断扩张和技术水平的不断提升, 客户对光学镀膜质量的要求越来越高,如何 更好地控制膜厚精度、提高镀膜质量是我们亟待解决的问题。我们通过对光学镀膜过程的算法仿真、实验测试和 监控、数据采集与分析，仔细研究了影响镀膜质量的几个关键因素,设计出了克服这些因素、提高镀膜质量的方 法。 1 影响薄膜沉积质量的几个关键因素 在镀膜过程中，镀膜质量的高低不但与操作人员的操作技术有关，还与镀膜机本身的特性、膜厚监控设 备、关键过程数据的计算方法、膜厚控制措施等因素有关，如何克服这些因素的影响是首要解决的问题。在经过 多次测试分析后，我们发现主要有以下几个因素:挡板关闭延迟导致的膜厚偏差; 膜层实际折射率;膜层的折射率 随膜厚增加不断发生不均质变化; 研究认为，沉积参数的变化和基底的表面特性是引起薄膜非均匀性的主要原因， 在基底与薄膜的界面处存在一个近似的线性过渡层。镀膜环境与测量环境不同、镀膜过程中所产生的消光系数(k)、 镀膜机的特性和工艺性能参数等也是影响薄膜质量的因素。本篇文章仅就前三个因素进行了着重分析和解决。 2 影响薄膜沉积质量的关键因素分析 2.1 挡板关闭延迟导致的膜厚偏差的因素 在镀膜过程中存在镀膜停止点计算方法的选择问题以及计算误差、镀膜停止的控制误差(挡板关闭延迟)等 因素，由此造成每层膜的膜厚与理论设计膜厚存在一定的偏差(记为△nd),从而导致薄膜的实际光学特性与理论 光学特性存在一定的偏差。因此，我们要针对此偏差产生的原因进行偏差分析和偏差评价函数设计,以此来计算 偏差大小，并与用户允许的目标偏差相对比,判断镀膜质量和膜系光学特性是否满足目标要求。 在 matlab 中设计膜系分光曲线的仿真算法 ①算法原理 : 第 310 页 五省一市光