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物理学报 Acta Phys. Sin. Vol. 61, No. 24 (2012) 244205 一种对双包层大芯径光纤光栅反射率和纤芯折射率调 制估算的方法* 周仁来 鞠有伦 杨超 王巍 王月珠 ( 哈尔滨工业大学光电子技术研究所, 可调谐气体激光技术国家重点实验室, 哈尔滨 150081 ) ( 2012 年4 月5 日收到; 2012 年7 月7 日收到修改稿) 报道了一种简单而又实用对双包层大芯径光纤光栅反射率和纤芯折射率调制的估算方法. 通过监测和记录光 栅刻写过程中光纤激光器输出功率随时间的变化, 将实验数据和掺铥光纤激光器的速率方程理论相结合, 对刻写 光栅反射率和纤芯折射率变化进行估算. 光纤光栅的最大反射率大约为96.4%, 纤芯折射率调制达到 . 利用显微镜对光栅进行观测, 纤芯的折射率调制变化均匀, 且周期与模板周期一致. 将光纤光栅应用在全光纤化掺 铥光纤激光器中, 在抽运功率为51.6 W 时, 获得 15.5 W 的1950.6 nm 激光输出, 斜率效率为37.9%, 并在输出功率 为15 W 时, 利用刀口法测得光束质量 . 关键词: 反射率, 折射率调, 光纤光栅, 掺铥光纤激光器 PACS: 42.55.Wd, 42.79.Dj, 42.70.Gi 硅光纤有一定的局限性. 首先, 利用这种方法刻写 1 引言 光纤光栅性能高度依赖于光纤纤芯掺杂材料的光 敏性, 对于不含锗的硅光纤的折射率调制效果差强 作为一种新型无源器件, 光纤光栅具有可靠性 人意. 其次, 在高温工作下, 这种方法刻写的光纤光 高、尺寸小、抗干扰能力强及集成化程度高等优 栅的折射率调制很容易被擦除, 这大大限制光纤光 点, 广泛的应用在光纤通信、光纤传感和光纤激光 栅的使用范围. 另一种基于飞秒脉冲激光器相位掩 器等领域. 目前, 刻写光纤光栅的方法主要有两种. 模刻写方法 [3−9] . 和传统的相位掩模刻写方法相 一种是基于光敏性的光纤光栅刻写方法. 1978 年, 比, 用强度极高的飞秒激光脉冲来代替紫外光源对 Hill 等使用了驻波法直接在光纤芯部写入光栅结 光纤直接进行刻写, 这种刻写方法具有绝对优势. [1] 首先, 它可以直接在非光敏光纤上刻写, 不需要考 构, 并揭示了光纤光敏性现象 . 1993 年, 该研究 小组又提出了紫外光垂直照射相位掩模形成的衍 虑光纤纤芯掺杂材料的性质. 其次, 它可以获得很 射条纹曝光光敏光纤, 通过相位掩模法刻写光纤光 大的折射率调制, 并且是永久性的损伤. 另外, 利用 [2] 这种方法刻写的光纤光栅具有更好的温度稳定性, 栅, 这种方法使光纤光栅走向实用化和产业化 . 由于掺杂稀土离子的硅光纤在光纤激光器和放大 工作环境温度可以大于1000 ◦C[1011]. 正是拥有这 器方面有着非常广泛的应用, 为了降低掺杂离子猝 些显著的优点, 该方法自出现以后就获得了国内外 灭和寿命短等不利因素影响, 稀土掺杂硅光纤中的 研究者的青睐. 锗元素被Al O 所代替. 由于锗元素的缺乏降低了 通常情况下, 利用光谱法来检光纤光栅性能, 2 3 光纤的光敏性, 无法获得折射率调制大的光纤光栅, 即直接将包含光栅中心波长的宽带白光光源耦合 故传统的紫外曝光刻写方法对于掺杂稀