热丝化学气相沉积法制备金刚石薄膜的生长取向与内应力研究.pdfVIP

热丝化学气相沉积法制备金刚石薄膜的生长取向及内应力研究／邢文娟等 ·305· 热丝化学气相沉积法制备金刚石薄膜的生长取向及内应力研究4 邢文娟，汪建华，王传新 (武汉工程大学等离子体化学与新材料重点实验室，武汉430073) 摘要 采用热丝化学气相沉积法在YG6硬质合金基体上制备出了金刚石薄膜，研究了基片与热丝间的距离以 及负偏压对金刚石薄膜的生长取向和内应力的影响。采用扫描电子显微镜对沉积得到的金刚石薄膜的生长取向进行 了表征，利用激光Raman光谱对金刚石薄膜的内应力进行了计算。结果表明：当基片与热丝间的距离保持在4．O～ 8．5mm，基体温度保持在750～800℃时，沉积出的金刚石膜表面晶形主要为(111)面，其内应力随着距离的增加而逐渐 减小，在8．0mm时为最小；但是当基底温度高于800*C时，内应力就会随着温度的升高而增加；最终结果导致膜基附着 力减弱。 关键词 热丝化学气相沉积金刚石薄膜 薄膜生长取向 内应力 Fil