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第2l卷第2期 腐蚀科学与防护技术 V01．2lNo．2
2009年3月 MaLr．2009
CoRRoSIoNSCIENCEANDPRoTECTIoNTECHNoLoGY
植酸自组装膜对白铜缓蚀作用的光电化学研究
徐群杰1，万宗跃1，一，费琳1，印仁和2，周小金1
1．上海电力学院能源与环境工程学院上海高校电力腐蚀控制与应用电化学重点实验室，上海200090；
2．上海大学理学院化学系上海200444
摘要：用动电位伏安法和光电化学方法研究了植酸自组装单分子膜(SAMs)对白铜B30的缓蚀作用．结果表明，植
酸分子易在自铜B30表面形成稳定的植酸SAMs，光电化学测试自铜B30表面膜显示p．型光响应，光响应来自电极
表面的Cu：O层，植酸SAMs的形成使其光响应明显减弱，有良好的缓蚀效果，这与交流阻抗得到的结论一致，同时
微分电容曲线表明植酸SAMs的形成改变了电极双电层结构，使得电容值减小，其缓蚀机理为化学吸附过程．
关键词：植酸；自组装膜；白铜B30；光电化学；腐蚀
中图分类号：TGl74．4文献标识码：A 文章编号：1002-6495(2009)02-0167-03
PHoToELECTRoCHEMICALSTUDYOFCoRRoSIoNPERFoRMANCEoF
SELF．ASSEMBLEDMoNoLAYERoFPHYTICACIDoNCu．NiALLoYB30
XU Xiao．Jinl
Qun—Jiel，WANZong．Yuel2，FEILinl，YINRen—He2，ZHOU
InstitutesandUniversitiesElectricPowerCorrosionControland
1．KeyLaboratoryofShanghai for AppliedElectrochemistry，
Environment Electric
Departmentof Engieering，ShanghaiUniversityof Power，Shanghai200090；
200444
2．DepartmentofChemistry，ShanghaiUniversity，Shanghai
ofthe acidonCu．Ni B30ina
Abstract：Thecorrosioninhibitionself-assembledof
monolayerphytic alloy
of0．075 voltam—
solution mol／L with was
mol／LNa28407+0．15H3803pH=8．5investigatedbycyclic
and method．Theresultsindicatethat acidiSliabletointeractwithB30
metryphotocurrentresponse phytic
informationofa onB30surfacewith resistancetorustandcorrosio
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