紫外光刻法制备图案化的硫化铜薄膜与其光学性能的研究.pdfVIP

第七届全国表面工程学术会议 紫外光刻法制备图案化的硫化铜薄膜及其光学性能的研究 卢永娟m．贾均红 (1．中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室，甘肃兰州730000； 2．中国科学院研究生院，北京100039) [摘要】 2S203为前驱体溶液，在70℃下选择性的沉积硫化铜纳米颗粒，制备了具有图案化结构的硫化铜纳米薄膜。 通过SEM、表面三维轮廓仪、XRD等对生成的膜进行了表征，并探讨了最佳的生长条件，实验表明在最佳的生 长条件下可以制备颗粒匀一的硫化铜纳米薄膜。紫外可见吸收光谱表明硫化铜薄膜具有一定的透光性，并且 通过计算可得所制备薄膜的带隙为2．48“。 [关键词】硫化亚铜；微图案；化学浴沉积法；光学性能 Fabricationand of Sulfide UVirradiation opticalpropertiesCopper Micropatternsby ofSolid