深紫外宽入射角范围增透膜设计与制备.pdfVIP

第39卷第5期 光 电工程 V0ll-39．NO．5 2012年 5月 Opto-ElectronicEngineering May,2012 文章编号：1003—501X(2012)05—0013—05 深紫外宽入射角范围增透膜设计与制备 蒲玲琳 1,2，林大伟 ，李斌成 (1．中国科学院光电技术研究所，成都 610209； 2．中国科学院研究生院，北京 100049) 摘要：在大数值孔径深紫外光学系统中，需要使用宽入射角范围的增透膜光学元件。选择LaF3和MgF2两种镀膜 材料，设计了适用于深紫外宽入射角范围的三层、五层和七层三种增透膜系。实验使用热舟蒸发在熔融石英基底 上镀制了设计的薄膜，并用紫外分光光度计对其光谱性能进行了测试，得到了在宽入射角范围内具有较高透过率 的深紫外增透膜元件。双面镀五层增透膜系的熔石英基片在 0。～55。入射角内的剩余反射率小于 2．5％，在 0。~20。 入射角内的透过率大于 98％。 关键词：深紫外；增透膜；宽入射角范围；剩余反射率 中图分类号：TN23；0484． l 文献标志码：A doi：10．3969／j．issn．1003—501X．2012．05．003 Deep-ultravioletAntireflectionCoatingsfor W ideAngleofIncidenceApplications PU Ling．1in一，LIN Da．wei，LIBin．cheng (1．InstituteofOpticsandElectronics，ChineseAcademyofSciences，Chengdu610209，China； 2．GraduateUniversityofChineseAcademyofSciences，Beoing100049，China) Abstract：InalargeNumericalAperture(NA)deepUltraviolet(DUV)opticalsystem，Antireflection(AR)coatedoptical componentswithverywideAngleofIncidence(AOI)areused．ByemployingLaF3／MgF2asthematerialcombination， wedesignedthreeARthinfilmsthatcanbeusedforcoatingonthewide—angleDUV componentswith3一，5一，and7-layer structures．Experimentally,wedepositedthinfilmsonfusedsilicasubstratesbyusingthethermalboatevaporation，and thenmeasuredtheirspectralpropertieswithaDUV spectrophotometer．TheexperimentalresultsindicatethattheDUV AR coatingswithhightransmittanceinawiderangeofAO1wereachieved．Theresidualreflectanceofadouble—side five-layerAR coatedfusedsilicawasmeasuredtobelessthan2．5％ whenAOIvariedfrom 0。to55。．meanwhilethe transmittancewasmeasuredtobelargerthan98％whenAOIvariedrfom 0。to20。． Keywords：deepultraviolet；