极端电化学条件下电沉积银枝晶生长.pdfVIP

摘要 极蟪毫纯学条件下电沉积锻接螽生长 铺 要 材料科学和技术的发展对具有特殊功能和用途的材料提出更高的要求。新型功能材 料梵其纳米材料的研究、开发积殿用是目前灼热点谖越之一。银终为导电和导热投最强 的会属，广泛应用于催化、光学(照相制版、拉曼光谱表面增强)、超导、化工、医学、 电子、电器等领域，化学法生成的各种形貌银材料不断见诸报邋。金属电化学沉积是一 门蠢老丽又譬轻的技术，过去强调的是装饰性和防腐往。传统的电亿学研究通常忽褫了 极端条件的情况，该条件下电沉积的研究对开发新型材料及深入认识电沉积机理舆有重 要静理论稻应浠参考徐繁。本文东无支持奄解震帮添翔裁豹舔磷酸锻溶液串，未聚精往 何限域性模枚或软模板，而通过威接电沉积在导电玻片上获得了几种新溅的具有分形特 薤戆锻技鑫，势褪步搽涎了不嚣Z慧条终对镁技鑫生长影貔熬影镌辊麓。燕要蠹容翔下： ◆简要概述了双电层结构、液相传质和金属电结晶原理，综述了有必金属电沉积以 及棱瀑分形生长若于方灏魏研究避袋。 ◆采用博电流方法研究了极端条件下不同工艺条件对银生长形貌的影响。sEM袭征 表明，在一定的浓度和电流密度范围内，憩解液浓度翔电沉积时间影响龋棱数量、沉积 物聚集体的大小和延伸生长形貌；电流密度不仅影响沉积物聚祭体内箍粒的大小，而且 显瓣改变其形貌。且在阴阳极阀隔膜孔隙率低的条{牛下生成了分形维数介于二维和三维 之闻的分形生长的银枝貉。xRD黼谱表弼锻棱晶鑫靛爨有蘑心立方的晶体结稳。 ◆在阴阳极间隔膜孔隙率低的条件下，探讨了极端条件下不同工艺条件对分形生长 懿锻棱晶形簸静影确。缑栗表甍，在奄裰表蠢流积兹澎貌为密棱形，遮饕电流密瘦躲壤 大以及时间的延长，形貌的总体变化趋势为由开放的分枝结晶向较为致密的生长形貌转 交；隧羞硝酸锻滚疫瓣增大，滚彀穆聚集髂尺寸壤大。特裂弓|怒我稍兴趣豹是，京邀辍 侧面出现了鲜见报道的不同形貌的具有分形特性的银枝晶。改旋电流密鹰、电解液浓度、 电泷辍对阕，枝鑫测技鹣长短、糕妻窭、大小亦发生变化，初步羧叛了各爨索豹影响壤理。 侧面枝晶形貌与电极表丽的枝晶形貌不同，主要是由电极侧面和表面不同的物理状态、 不浏的传质条件和不同的电场分搬引起的。 ◆在本实验极端条件下，控制适当的工蕊参数可通过直接电沉积得至《镶纳米颗粒的梅 花状聚集体和侧枝为纳米尺度的不同形貌分形生长的锻枝晶。本工艺有可能开辟一种简 河北师范大学理学硕士学位论文 单的直接电沉积制各纳米银枝晶的新思路。枝晶形貌的分形特征分析及本实验极端条件 下电沉积机理有待于进一步深入研究。 ◆对极稀的硫酸铜溶液中，没有任何模板的极端条件下金基底上铜的电沉积进行了初 步尝试。实验证明，极稀硫酸铜溶液中，较小电流密度及长时间电沉积有利于铜发散形 的线性生长。 ● 关键词：电沉积；非传统电化学条件；银枝晶；分形生长；形貌；生长形态