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高特性GaAs基异变谐振腔增强型1.55μmInGaAs光电探测器
刘少卿1 韩勤1杨晓红1倪海桥2贺继方2王欣1李彬1牛智川2
1中科院半导体研究所集成光电子学国家重点实验室,北京 100083
2中科院半导体研究所 半导体超晶格国家重点实验室
摘要:本文报道了一种GaAs基顶部入射的异变谐振腔增强型(RCE)1.55μmInGaAs部分耗尽吸收探测器(PDA-PD)。器件
的外延结构由分子柬外延系统 (MBE)生长。底镜和顶镜分别是由20对AlAs/GaAs分布布拉格反射器 (DBR)和两对Ta2Os/SiO2DBR
组成,腔内InGaAs和GaAs之间的失配应变由线性缓变的IrxAl0.4Ga0.6-xAs缓变层调节 (In组分由0.02线性变化到0.5)。器件
的暗电流在0V和-5V时分别为29pA和2.1nA,响应度在1.55μm波长达到76.8%,半高全宽为12nm,并获得高达12GHz的3-dB
带宽。
关键词:GaAs;InGaAs;异变;谐振腔增强型
O475 A
High-efficiencyandhigh-speedmetamorphicresonantcavity
enhancedInGaAsphotodetectorsonGaAssubstrate
ShaoqingLiuQinHanXiaohongYangHaiqiao,NiJifang,HeXinWangBinLi
StateKeyLaboratoryonIntegratedOptoelectronics.InstituteofSemiconductors.ChineseAcademyofSciences,Bei.jimg100083,China
Abstract:Inthisletter,wedemonstratedatop-illuminatedmetamorphic-resonantcavityenhanced(RCE)1.55μrnInGaAspartially
depletedabsorber(PDA)photodetectoronGaAssubstrata.Thephotodetectorsweregrownbysolid-sourcemolecularbeamepitaxy
system.TwopairsTa2Os/SiO2distributedbraggreflector(DBR)whichweregrownbyionbeamsputteringserveasthetopmirror.
Bottommirroriscomposedof20pairsAlAs/GaAsDBR.ThelargemismatchstrainbetweenInGaAsandGaAsinthecavitywas
accommodatedbyalinearlygradedIn,Alo.4Ga0.6-(2)Asbufferlayer(Indiumcontentlinearlychangedfrom0.02to0.5).Alowdarkcurrent
of29pAat0Vand2.InAat-SVreversebiaswasobtained,respectively.Thephotodetectorachievedaquantumefficieneyof76.8% at
1.551rnwithafullwidthathalfmaximum(FWHM)of12umandahigh3-ribbandwidthupto12GHz.
Keywords:GaAs;InGaAs;metamorphic;RCE
第十七一,R-mfir.奢物牛●r俸.捌‘渡■l伟和光’0肆件拳术◆议
而且GaAs衬底比InP衬底便宜的多114q6|。
本文介绍了一种GaAs基顶部入射的异
变RCE探测器的设计、生长、制作和特性分
析。器件显示出了低暗电流、高量子效率和
高速特性。
2实验
器件的外延结构由分子束外延系统生长
在GaAs衬底上。先生长300nm厚的GaAs
Sl;-^^_b‘姐
缓变层后,接着生长20对非掺杂的
AlAs(134.3nm)/GaAs(113.6nm)DBR作为底
镜,其理论反射率在1550nm波长为99.4%。 图l异变RCE探测器截面结构图
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