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真空镀 　　真空镀主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型，它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较高档产品的功能性镀层，例如作为内部屏蔽层使用。 　　真空蒸镀：在高真空下，通过金属细丝的蒸发和凝结，使金属薄层附著在塑胶表面。 真空蒸镀过程中金属(最常用的铝)的熔融，蒸发仅需几秒钟，整个周期一般不超过15MM，镀层厚度为0.8-1.2uM. 　　设计真空蒸镀塑料制品应避免大的平坦表面，锐角和锐边。凹凸图案、纹理或拱形表面效果最佳。真空蒸镀很难获得光学平面样制品表面。 　　不过镀层附着力比水镀差很多。 　　A9手机的面壳镀铜后镀LOU，共10μ，镀LOU层0.18μ。真空电镀相对于水电镀来讲，表面硬度较低，但污染较小。真空镀不导电 　　目前水电镀在重工业上应用较多（汽车等），而真空电镀则广泛应用于家用电器、化妆品包装。 　　如果真空电镀的硬度能达到水电镀的等级，那么水电镀将要消失了。 　　目前很多手机上的金属外观件，都采用PVD真空离子镀，不仅能够提供漂亮的颜色而且耐磨性很好。不过比较贵，成本较高。 　　溅射镀：磁控溅射镀膜设备： 　　磁控溅射镀膜设备是一种多功能、高效率的镀膜设备。可根据用户要求配 　　置旋转磁控靶、中频孪生溅射靶、非平衡磁控溅射靶、直流脉冲叠加式偏压电源等， 　　组态灵活、用途广泛，主要用于金属或非金属（塑料、玻璃、陶瓷等）的工件镀铝、 　　铜、铬、钛金、银及不锈钢等金属膜或非金属膜及渗金属DLC膜，所镀膜层均匀、 　　致密、附着力强等特点，可广泛用于家用电器、钟表、工艺美术品、玩具、车灯 　　反光罩以及仪器仪表等表面装饰性镀膜及工模具的功能涂层。 　　a旋转磁控溅射镀膜机；旋转磁控溅射镀膜技术，是国内外最先进的磁控溅射镀膜技术，靶材利用率达到70～80% 　　以上，基体镀膜均匀，色泽一致。 　　b平面磁控溅射镀膜机； 　　c中频磁控溅射镀膜机； 　　d射频磁控溅射镀膜机。 　　可以在金属或非金属（塑料、玻璃、陶瓷）的工件镀金属铝、铜、钛金、锆、银、不锈钢及金属反应物（氧化 　　物、氮化物、炭化物）、半导体金属及反应物。所镀膜层均匀、致密、附著力好等特点。 　　一、 单室/双室/多室磁控溅射镀膜机 　　该镀膜机主要用於各种灯饰、家电、锺表、玩具以及美术工艺等行业，在金属或非金属（塑料、玻璃、陶瓷）等 　　制品镀制铝、铜、铬、钛、锆、不锈钢等系列装饰性膜层。 　　技术指标： 　　真空室尺寸：可以根据用户的要求设计成单室或双室或多室 　　极限压力：8×10-4Pa 　　恢复真空度时间：空载 从大气至 5 × 10-2Pa ≤ 3或8min（根据用户要求定） 　　工作真空度：10～1.0× 10-1Pa 　　工艺气体进入装置：质量流量控制器（可选配自动压强控制仪） 　　转动工件架形式：公 / 自转工件架 　　溅射源：矩形平面溅射源（1～4个）/柱状溅射源（1个）/混合溅射源 　　可以选配：基片烘烤装置；反溅射清洗 　　二、单室/双室/多室磁控反应溅射镀膜机 　　该镀膜机主要用於太阳能吸热管所需要的镀膜涂层（如Al—N/Al或Cu—C/1Cr18Ni9Ti）；高级轿车後视镜镀膜 　　（蓝玻）；装饰仿金、七彩镀膜；透明导电膜（ITO膜）；保护膜。 　　技术指标： 　　真空室尺寸：可以根据用户的要求设计成单室或双室或多室 　　极限压力：8×10-4Pa 　　恢复真空度时间：空载 从大气至 5 × 10-2Pa ≤ 15min（根据用户要求定） 　　工作真空度：10～1.0× 10-1Pa 　　工艺气体进入装置：质量流量控制器（可选配自动压强控制仪） 　　工作气路：2路或3路 　　转动工件架形式：公 / 自转工件架 　　溅射源：矩形平面溅射源（1～4个）/柱状溅射源（1个）/混合溅射源 　　三、多功能镀膜机 　　设备基本配置： 　　真空室 　　工件转动系统 　　真空抽气系统 　　工作气体供气系统 　　溅射系统：平面溅射/柱状溅射/中频溅射/射频溅射系统 　　动系统 　　控制系统 　　冷却系统 　　技术指标： 　　真空室尺寸：φ600×800 φ850×1000 φ1000×1200 φ1100×1500 可以根据用户的要求设计成箱式 　　极限压力：8×10-4Pa 　　恢复真空度时间：空载 从大气至 5 × 10-2Pa ≤ 15min（根据用户要求定） 　　工作真空度：10～1.0× 10-1Pa 　　工艺气体进入装置：质量流量控制器（可选配自动压强控制仪） 　　工作气路：2路或4路 　　转动工件架形式：公 / 自转工件架 　　溅射源：