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策划及编辑:北京金属学会办公室
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25、61
MPa级水电用钢再热脆化研究
张熹,许良红,陈延清,章军
(首钢技术研究院用户技术研究所)
摘要:本文讨论了焊后热处理制度对不同热输入下610MPa级水电钢粗晶区冲击韧性的影响,发现热输入在30kJ/cm
时在620℃附近有脆化倾向;热输入在40kJ/cm时在580℃出现显著再热脆化。SEM、TEM及能谱试验结果表明碳
化物在原奥氏体晶界析出是发生再热脆化的原因。焊接热输入不同导致碳化物在焊后热处理时溶解规律不同,从而
造成了40kJ/cm焊接热输入下发生再热脆化的温度较30kJ/cm焊接热输入下再热脆化温度向低温方向移动。最终
根据试验结果优化了610MPa水电钢焊后热处理工艺。
26、烧结温度对AZO热压靶材性能影响研究
白雪,王星明,韩沧,储茂友,段华英,石志霞,孙静,林阳
(北京有色金属研究总院矿物资源与冶金材料研究所)
摘要:以ZnO和A1203粉体为原料,采用热压烧结制备AZO靶材。通过阿基米德法测量靶材的密度,压汞法测量靶
材的孔径分布,扫描电镜观察靶材的断面形貌,研究了热压温度对AZO靶材密度、气孔演化和显微结构的影响。结
果表明:根据烧结温度的不同,kZO靶材热压致密化过程分为两个阶段:850℃一1050℃,随着温度的升高,连通气孔
发生合并与收缩,孔径分布逐渐集中化,同时闭孔率逐渐减小,在1050℃具有最低值0.104%。这一阶段的主要特征
是致密化速率较快,存在相互连通的气孔。当温度升至1150℃,颗粒之间结合紧密,孔隙率降至5.21%。这一阶段
的主要特征是气孔全部闭合。将所制备的靶材作为溅射源,进行射频磁控镀膜测试。采用台阶仪测量膜厚,紫外分
光光度计测量薄膜透光率,四探针电阻图谱仪测量薄膜电阻率,XRD分析物相的结构。镀膜测试结果显示,在相同的
溅射条件下,靶材孔隙率越低,沉积速率越快,所得薄膜电阻率越低,但溅射功率较高时薄膜透光率明显减小。平
均孔径较小且孔径分布集中的靶材,溅射所得薄膜电阻率较低。在溅射功率密度为3.9W/cm2下,相对密度高于80%
的AZO靶材,靶材寿命大于150W·h。相对密度为94.79%的靶材在溅射功率30w下沉积20min得到薄膜的电阻率
为3.14×lO-40hm.am,平均透过率大于85%,具有002择优取向,满足薄膜太阳能对透明导电薄膜性能的要求。
27、区域熔炼法制备高纯锌的研究
李文良,罗远辉
(北京有色金属研究总院矿物资源与冶金材料研究所)
摘要:采用区域熔炼法对高纯锌的制备进行了研究。估算了锌中主要杂质在锌熔点附近的的平衡分配系数,分别为
kO,Fe=474,kO,Cu=1.12,kO,Cd=O.15,kO,Pb=1.17X
10-2。通过参考Spim数学模型,分析了在区熔提纯中熔区长
度对区熔提纯效率的影响,获得每次通过时的最优熔区长度,并考察了区熔次数、熔区长度对提纯效率的影响。通
过辉光放电质谱仪对杂质进行分析,结果表明:在高纯氩气流动保护下,控制熔区移动速率为3cm·h-1,熔区长度
为50into,区熔20次后,杂质总量从1.006g·g-1降低到0.303lJ
U
卜6次为70一80
Rim,第7-10次为50-60mill,第11-20次为30-40Rim的变化熔区长度,杂质总量可降低到0.216ug·g-l,
即采用变化熔区比不变熔区的提纯效果好,产品锌的纯度为6N8(99.99998%),满足了半导体和光电材料的应用要求。
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