真空镀膜技术的最新进展.pdfVIP

真空镀膜技术的最新进展 j。3jD5^拿 姜燮昌 (．k海真空泵厂) 摘要本文介绍了旋转磁控溅射和电弧离子镀技术的最新进展。论述丁旋转圆柱磁控溅射靶C— Mag、孪生磁控溅射靶TwinMag相旋转磁控柱状弧源的特性及其应用。本文还对LOW—e膜和 ITO膜的制备工艺和设备进行了分析研究，并指出今后发展方向。 ‘ 关键词真空镀膜C—MagTwin—Mag柱状弧源LOW—e膜ITO膜 ， 真空镀膜技术在国民经济各个领域有着广泛应用，特别是近几年来，我国国民经济的迅速 发展、人民生活的不断提高和高科技薄膜产品的不断涌现，给真空镀膜技术的发展和推广应用 带来了新的机遇。 ● 一、磁控溅射镀膜技术 磁控溅射镀膜技术至今已有zo多年历史，由于它具有 高速、低温二