201010207485-一种高活性电镀级氧化铜的生产工艺.pdfVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局 *CN101844793A* (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 101844793 A (43)申请公布 日 2010.09.29 (21)申请号 201010207485.3 (22)申请 日 2010.06.24 (71)申请人 昆山市千灯三废净化有限公司 地址 215345 江苏省昆山市千灯镇何家浜路 9 号 (72)发明人 庄永 邹鸿图 赵中华 钱丽花 (74)专利代理机构 南京众联专利代理有限公司 32206 代理人 顾进 (51) Int.C l. C01G 3/02 (2006.01) 权利要求书 1 页 说明书 4 页 附图 1 页 (54) 发明名称 一种高活性电镀级氧化铜的生产工艺 (57) 摘要 本发明的主要内容是以线路板酸性氯化铜或 者硝酸铜或者硫酸铜蚀刻废液和液体氢氧化钠或 者氢氧化钾为主要原料，合成的粗品氧化铜经微 波干燥、粉碎、水洗、超声波洗涤、微波再次干燥及 粉碎工艺，制得含量达99％以上的氧化铜，在电 镀液中能够快速溶解，即30 秒以内完全溶解，并 且有较低的杂质含量，本发明工艺具有生产成本 低，工艺简单，生产过程中对环境污染小，生产出 的氧化铜活性高等优点。 A 3 9 7 4 4 8 1 0 1 N C CN 101844793 A 权 利 要 求 书 1/1 页 1. 一种高活性电镀级氧化铜的生产工艺，其特征在于该生产工艺包括以下步骤 ： (1) 在反应釜中加入酸性蚀刻废液和碱性溶液，调节溶液PH 值到9-13，然后进行加热， 加热至50-100℃，搅拌状态下反应30-60 分钟 ； (2) 将反应好的物料用泵打入板框压滤机进行压滤，得到氧化铜滤饼，然后进行微波干 燥，分离后的滤液进入废水处理系统； (3) 干燥后的氧化铜经粉碎机进行粉碎 ； (4) 粉碎后的氧化铜转移至水洗桶中进行洗涤，在搅拌状态下洗涤20-40 分钟 ； (5) 经过离心后的氧化铜再转移到另一水桶中进行洗涤，重复步骤 (4) 的过程 ； (6) 经过两次水洗后的氧化铜经再次离心后转移至超声波洗涤槽内进行洗涤，洗涤后 的氧化铜经过离心后再次进入微波干燥 ； (7) 将干燥后的氧化铜粉碎，然后进行真空包装，即可完成生产工艺。 2. 根据权利要求1 所述的一种高活性电镀级氧化铜的生产工艺，其特征在于：所述步 骤 (1) 中加入的酸性蚀刻废液是浓度为1-10％，占反应釜总体积30-80％的氯化铜或者硝 酸铜或者硫酸铜蚀刻废液。 3. 根据权利要求1 所述的一种高活性电镀级氧化铜的生产工艺，其特征在于：所述步 骤 (1) 中加入的碱性溶液是浓度为10-50％的氢氧化钠或者氢氧化钾溶液。 4.根据权利要求1所述的一种高活性电镀级氧化铜的生产工艺，其特征在于：步骤(2) 中的微波干燥是将氧化铜滤饼均匀地涂于微波干燥设备的传送带表面，厚度约为1-10mm， 传送带进料速度1-10m/min，微波功率10-60kw。 5. 根据权利要求1 所述的一种高活性电镀级氧化铜的生产工艺，其特征在于：将步骤 (3) 中氧化铜粉碎至100-500 目。 6.根据权利要求1所述的一种高活性电镀级氧化铜的生产工艺，其特征在于：步骤(6) 中的超声波洗涤时将经过两次水洗后的氧化铜经再次离心后转移至超声波洗涤槽内，加入 纯净水，混合均匀后开启超声波发生装置，在2-5kw 的功率下，洗涤5-20 秒。 7. 根据权利要求要求1 所述的一种高活性电镀级氧化铜的生产工艺，其特征在于：将 所述步骤 (7) 中的氧化铜粉碎至800-1000 目。 8.