第四章特征基本操作.doc

图4.36（e）编辑阵列实例操作过程 选择“阵列1” →右键菜单的“编辑定义”命令，进入阵列操控板如图4.45（a）； 单击激活“方向1”中的“尺寸”选项→按住“Ctrl”键点选尺寸“Φ30” →输入直径增量值“30”，按“Enter”键进行模型预览 如图4.45（a）； 在操控板的“选项”上滑菜单中选择“一般”再生选项； 单击 图标，完成结果如图4.45（b）。设计结果如附盘文件“SL04-09e”。 (a) 尺寸方向收集器 (b) 阵列结果 图4.45 阵列特征编辑 【注意】： 若在步骤（3）图4.45（a）中选择“相同”再生选项→单击 图标→则结果如图4.46所示； 如果步骤（3）选择“可变”再生选项，→单击 图标，则出现“诊断失败”对话框如图4.47（a）所示，在菜单管理器如图4.47（b）中点击“取消更改” →“完成/返回” → “确定”按钮，结果取消（1）～（3）的步骤回至图4.44（b）所示的模型。 图4.46 再生选项 （b）菜单管理器 图 4.47 取消更改 图4.36（f）填充阵列实例操作过程 选择“特征2”→单击 图标，进入阵列特征操控板； 选择阵列方式为“填充”如图4.48（a）所示； 单击“参照” →“定义”按钮，进入“草绘”对话框； 选择参照如图4.48（b），单击“草绘” →“关闭”按钮； (a) 阵列特征操控板 (b) “草绘“对话框 图 4.48 填充阵列特征 在工作区草绘填充区域如图4.49所示； 图 4.49 草绘填充区域 单击 图标，回到阵列操控板，如图4.50（a）所示； 设置排列方式为“正方形”，阵列间距为“35”，边界距离为“15”，倾斜角为“45”→单击 图标，结果如图4.50（b）所示。设计结果如附盘文件“SL04-09f”。 (a) 阵列操控板 (b) 阵列结果 图4.50 填充阵列特征 【实例4.10】完成图4.51中以（a）为阵列导引的表方式阵列实例（b）。 打开LX04-05 如图4.28（a），要完成阵列实例，阵列数应为5，其中3个需改变X、Y定位尺寸，1个需改变X、Y定位尺寸和圆柱高的定形尺寸； (a) 阵列导引 (b) 表方式阵列 图4.51 表方式阵列 选择阵列导引“特征2”→单击右键快捷菜单“阵列”命令 ，进入特征阵列操控板如图4.44→选择“表”阵列方式； 单击“选取项目” →按住“Ctrl”键，选择定位尺寸“115”、“120”和高定形尺寸“50”，模型中尺寸变成红色，此时原来的“选取项目”变成“3个项目”，“编辑”按钮也被激活； 图4.52阵列操控板 单击“编辑”按钮→进入表阵列的列表栏如图4.53所示，按图示设置如图列表； 单击“文件”→“保存”命令，按要求设置文件名和路径→单击“文件”→“退出”命令，回到阵列操控板并自动进入阵列结果预览状态； 图4.53表阵列列表栏 如对预览结果不满意→则重复步骤（4）～（5）直至满意，单击中键表示“接受”，结果如图4.54所示。设计结果如附盘文件“SL04-10”。 图4.54表阵列结果 【实例4.11】采用参照阵列特征的方法完成图4.54到图4.55所示模型的变更。 图4.55 参照阵列结果 参照阵列能将一个特征阵列复制在其它阵列特征之上。新参照阵列特征的“阵列导引”必须是初始特征阵列的“阵列导引”，因此要完成题目的要求，就必须把将要变更的“孔特征”采用“同轴”的方式放置在原先的阵列导引的上表面，具体操作如下。 在上例的结果模型中，用孔特征放置的方法创建一个直径为20，深度为10的普通直孔作为参照阵列的“阵列导引”，采用“同轴”方式放置在原特征导引的上表面，结果如图4.56所示； 图4.56 孔放置结果 选择孔特征“孔1” →单击 图标→进入阵列操控板； 系统自动选择阵列类型为“参照” →单击 图标，完成参照阵列的创建，结果如图4.55所示。设计结果如附盘文件“SL04-11”。 4.2.2特征的环形阵列操作及实例 【实例4.12成图4.57a】→（b）的环形阵列实例。 打开配盘LX04-06如图4.57（a）所示； (a) 阵列导引 (b) 阵列结果 图4.57 环形阵列 选择特征“拉伸2”→ 单击 图标，进入阵列操控板如图4.58→选择左下角的阵列类型为“轴”; 选择模型中“A-2”基准轴线为旋转中心轴; 输入第一方向阵列数为“5”，阵列范围为“360”； 选择第二方向阵列数为“2”，阵列距离为“50”（如输入“-50”则表