网站大量收购独家精品文档,联系QQ:2885784924

声表面波器件用压电晶体的生长的研究.pdfVIP

声表面波器件用压电晶体的生长的研究.pdf

  1. 1、本文档共2页,可阅读全部内容。
  2. 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
  3. 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  4. 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  5. 5、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  6. 6、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  7. 7、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  8. 8、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
声表面波器件用压电晶体的生长研究 徐家跃‘,范世g§1,周娟1,夏宗仁2 (1.中国科学院上海硅酸盐研究所,上海200050:2.中电科技德清华莹电子有限 公司,浙江德清313216) 一、引言 声表面波(SAW)器件主要是利用Rayleigh波在固体材料表面传播而设计的 一类电子元器件,诸如滤波器、谐振器、振荡器等。通过压电效应,可在压电材料 表面实现电磁波与声波之间的能量转换.从而实现信号的传递。随着移动通讯产业 的迅速发展,SAW器件不仅有向高频、低损耗、小型化方向发展的趋势,而且要 求不断降低成本。这就意味着对SAW器件用压电单晶基片的要求越来越高。目前 SAW器件用压电单晶材料主要有水晶、铌酸锂、钽酸锂、四硼酸锂等。本文报道 了我们在声表面波器件用压电晶体方面的最新研究成果。 二、大尺寸四硼酸锂晶体 四硼酸锂(Li2840,:LBO)晶体具有机电耦合系数高、温度稳定性好、原料成本 低等优点,是一种综合性能优良的新型温度补偿型SAW基片材料,特别适合于高 频或超高频、小型化SAW器件的设计和制作。我们针对LBO晶体热导差、熔体 粘度大、极易开裂等特点,在国际上首创LBO晶体坩埚F降法生长技术,生长出 直径82mm(三英寸)、无宏观缺陷的LBO晶体。经过多年的攻关,成功地实现了 三英寸LBO晶体的工业化生产,使中国成为世界上唯一能批量提供三英寸LBO晶 体的国家,引起了国际产业界的关注。目前,三英寸LBO晶体产品已被日本、韩 国等国多家大公司采用,开发出性能优越的SAW器件并投放市场。面对通讯领域 激烈的市场竞争,在不断提高晶体质量的同时,器件厂商还希望通过采用更大尺寸 的晶体圆片来降低器件成本。为此,我们通过一系列工艺改进,成功生长出直径 J。 105mm(四英寸)、长度80.120mm的LBO晶体II 三、硅酸镓镧系列新型压电晶体 硅酸镓镧(La3GasSiOl4.LGS)单晶具有高温度稳定性、较大机电耦合因数和 较小声速等优点,是一种性能优异的新型声表面波基片材料。目前提拉法已生长出 3.4英寸LGS晶体,但是由于Ga203原料昂贵,晶体价格居高不下成为该晶体工业 化应用的严重障碍。通过置换LGS结构中的部分甚至全部离子,不仅能降低原料 成本,而且可探索高性能的新型压电材料。目前,离子置换获得的LGS系列压电 先开展LGS和SGG晶体的坩埚下降法生长研究,已经获得了一定尺寸的单晶Iz4J。 图l是提拉法生长的LGS晶体,图2是坩埚下降法生长的SGG晶体。提拉法生长 的晶体具有一定的结晶学形貌,这在园片加工时必须滚园,而下降法生长的晶体可 根据需要制成圆形或其他形状,减少了原料的浪费,节约了成本。 .120- 翻1提拉法生长的LGS晶体 图2坩垌下降法生长的SGG晶体 四、低静电铌酸锂、钽酸锂晶体 铌酸锂(LiNb03:LN)和钽酸锂(LiTa03;LT)晶体具有优异的压电、热释电、 电光等性能,是十分重要的压电基片材料,广泛用于制造声表面波(SAW)和体 波(BAW)器件。但是高透过率和高热释电性对SAW器件制作工艺十分不利:高 热释电性使晶片表面很容易聚集大量静电荷,这些电荷放电时会烧毁叉指电极(制 作高频器件时尤甚),大大增加了器件的次品率;高的光透过率会导致晶片背面形 成漫散射,器件容易出现不连续的线宽。针对这些问题,近年来国际上兴起对LN、 L1’晶片进行化学还原的工艺。我们在国内率先开展LN和【T黑片研究,采用化学 进行退火热处理,成功制各了3英寸LN和u’低静电黑片,不仅减少了器件制作 工序,而且使成品率提高了5—8百分点…。 五、结束语 针对SAW器件向高频、低损耗、小型化、低成本方向的发展趋势,我们生长 了大尺寸LBO晶体、LGS和SGG新型压电晶体,制备了3英寸低静电LN和LT 黑片。其中LBO晶体已实现了工业生产,LN和LT黑片技术基本成熟。SGG晶体 还有待进一步长大。 参考文献: [1]徐家跃等.四英寸四硼酸锂压电晶体的生长研究,无机材料学报,17(2002)857—861. of E2]Juan

文档评论(0)

youyang99 + 关注
实名认证
文档贡献者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档