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电子显微学报JChinElectr.Microsc.Soc
2004年
23(4):403,403
03
巨磁阻多层膜的透射电镜研究
虞红春1,刘立峰2,李 莹1,田焕芳1,周玉清1,吕惠宾2,李建奇1
(中国科学院物理研究所1北京电子显微镜实验室,2光物理重点实验室,北京100080)
本文选择Nb掺杂的SrNb,Ti。O,(SNTO)作为n长,且贯穿一层或多层薄膜。图b给出LCMO/SNTO
界面的微区电子衍射花样。由于SNTO的晶胞参数
型衬底材料,利用激光分子束外延(【MBE)生长La。
稍大于LCMO的晶胞参数,白线方框所在的衍射点
Ca,MnO,(LCMO)巨磁阻薄膜作为P型材料,人工合
成了巨磁阻锰氧化物异质结。这种异质结不仅具有 存在有SNTO面间距为0.27nm晶面衍射的贡献,相
应的高指数晶面的衍射点(白色箭头标志)明显可见
良好的p-n结特性,而且具备其他特殊的物理性质。
劈裂成双点,沿着c‘轴方向较远的点为LCMO的衍
一般认为LCMO巨磁阻薄膜材料中具有负的CMR
效应,而我们的测量表明该材料的CMR值的正负与 射点,较近的点为SNTO的衍射点。图c显示
温度有关,即在低温(77K)为负的CMR效应,而在室
列规则,晶格匹配较好,观察不到缺陷和杂相的存
温(300K)下,则为正的CMR效应。且室温下也存在
明显的CMR效应,在0.1T下CMR值达到6%。为
了更好的理解巨磁阻LCMO多层膜的结构和特殊物区域度为10nm左右,分别给出Ti.L,,O.K,,Ti.k,
理性质,本文利用透射电镜对外延薄膜内部微结构, Mn.k,,La.M。的吸收峰,同时我们还进行了EDAX
异质结界面原子排列,外延取向关系等进行了初步 定量分析,结果与制备样品时的化学计量吻合。图
的观察和分析。 e是LCMO薄膜的典型选区衍射花样,电子束入射
方向沿着[1—10】带轴,沿c’轴方向,除强衍射点
圈a为LCMO/SNTO巨磁阻多层薄膜截面样品
的低倍TEM形貌像。为了得到优良的LCMO巨磁外,存在弱衍射点,反映畸变后的晶格结构,周期大
阻异质外延薄膜,在采用LMBE生长方式的同时,选小为原来ABO,钙钛矿结构的一半。图f则给出图e
择SNTO作为n型材料。因为LCMO与SNTO晶体相应区域的高分辨电子显微像,图中可见相应的沿
结构同属于钙钛矿型结构,且晶胞参数相近,LCMOc方向层状结构,层间距大小为原来ABO,钙钛矿结
=0.3846nm,SNTO=0.3905nm,由图可见,每层薄膜
构两倍的(001)面间距,即2d。)_0.769nm。
厚度均一,界面平整清晰,但明显可见薄膜呈柱状生
(001)界面的高分辨像;图d为LCMOISNTO界面的EELS谱图;图eLCMO薄膜的典型选区电子衍射图;图fLCMO薄膜
的高分辨像,可见层状结构。
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