涂敷法制备碳纳米管场发射阴极地研究.pdfVIP

涂敷法制备碳纳米管场发射阴极的研究 王琪琨朱长纯蒋飞 (西安交大真空锻电子研究所．西安，710049) 摘 要：本文研究了用涂敷法制备碳纳米管场发射阴极的工艺，热解法获得的碳纳米管经过 研磨。再与粘合剂、有机溶剂混合，直接涂敷在硅基底上，用二极管结构测量了其场法 进行表面处理。开启电压提高到2．79V／p．m，但最大发射电流有很大提高，可能缘于在磁 场的作用下，碳纳米管的取向、分布状态发生了变化。 关键词：涂敷法，碳纳米管，场发射特性 一引言 场发射阴极是场发射平板显示器的核心部分，过去多用Si、Mo、金刚石等材 料制成尖锥阵列或薄膜作为场发射阴极。最近，碳纳米管以优良的场发射特性受 到人们的极大关注[1】【2】，用碳纳米管作为阴极材料将可能使平板显示技术发生革 命性变革。碳纳米管较以往的场致发射阴极有更尖锐的发射尖端、更高的机械强 度和化学稳定性，并且材料来源广泛，制备工艺相对简单，容易在工业上进行大 批量上生产。我们制各碳纳米管阴极采用了一种称为涂敷法的厚膜工艺和表面处 理方法。这种厚膜工艺成本低，在制作大面积阴极方面很有优势。表面处理方法 能提高和改善发阴极的表面状态和形貌，从而获得更好的场发射性能。 二实验 涂敷法制备碳纳米管阴极的工艺较简单，并且这种方法适合于各种基底，如 硅片、玻璃、陶瓷、金属等。涂敷法制备碳纳米管场致发射阴极的实验过程为：(1) 硅片基底的清洗：实验所选用的基底为n型硅片，在涂片前进行清洗处理。(2) 浆料的配备：碳纳米管原料为热解法生产的碳纳米管粉末，把这种含碳纳米管的 粉末与粘合剂、有机溶液混合以适当的比例混合，得到的糊状体还需要研磨，使 其中碳纳米管均匀分布，并且要使浆料具有一定的流动性和粘度。(3)涂片：涂片 采用的方法是滴涂。滴涂就是浆料直接滴在基底上，依靠浆料的流动性自然在基 底表面展开，形成薄膜。虽然方法相对简单，但是效果较好。然后，把涂好的片 予放在阴凉处自然凉干，这段时间大约需要6小时。(4)后处理方法：后处理是指 在基底上的碳纳米管阴极薄膜形成后，为了改善其场发射特性，对阴极薄膜进行 烘烤、烧结、刻蚀等处理。后处理在整个制备工艺中起到很重要的作用，它能改 变碳纳米管阴极薄膜的表面形貌，对其场发射特性有重要影响[3][41151。 三实验结果和讨论 浆料配备直接决定阴极碳膜的均匀性和表面形态，为了得到具有一定附着力的 碳纳米管涂层，浆料配备时粘合剂与碳纳米管粉末比例要适当。同时硅片的抛光 程度对结构有一定的影响，在实验是中一般选择抛光面作为涂敷表面。表面的后 处理也是很关键的技术，对碳膜表面形态的改善有重要作用。现在用涂敷法已经 能制备出表面厚度均匀的阴极碳膜了，膜厚一般为46I-un，而且可以大面积的制备。 图l显示的是阴极碳膜的SEM图象。从图中碳纳米管涂层的表面形貌，可以 看到碳纳米管呈藤蔓分布，多层碳纳米管相互交缠，有部分碳纳米管伸出表面， 然后起到发射尖端的作用。同时从表面形貌来看碳纳米管的定向性较差，有待改 善。 (a)阴极表面俯视图 (b)阴极表面测视图 图1碳纳米管阴极表面的SEM图象 (’E差)lu皇Jnu Voltage(v『um) 图2碳纳米管阴极的1一V特性 图2是涂敷法制备的碳纳米管阴极的发射特性，阳极为涂有荧光层的ITO玻璃， 对同一个阴极在磁场下进行表面处理后，发射电流有所增加，在电场4．2V／¨rn 对于碳纳米管阴极场发射特性变化的原因，需要进一步研究。在此只能做一些 试探性的讨论，一种可能是：在磁场力的作用下，碳纳米管取向或排列发生变化， 从而使得优势的碳纳米管发射尖端发生变化。这种解释首先是基于这样一种事实， 即在磁场力的作用下，磁场力使碳纳米管发生拉伸或弯曲形变。对于在空间成疏 一．E。，§Fl；o