软X射线多层膜和衰减膜研究.pdfVIP

软x射线多层膜与衰减膜研究 王占山吴永刚唐伟星秦树基周斌陈玲燕 (同济大学物理系．上海四平路1239号．200092) 擅耍本文采用随机数的方法，发展了一种普适的多层膜设计方法，这种方法除可设计 一般的周期多层膜，更重要的是它可必根据选定评价因子，设计不同要求的非周期多层膜。用 磁控溅射方法完成软x射线多层膜制各．x射线衍射、卢瑟福背散射、俄歇电子谱和反射率的 相对测试用来表征多层膜结构和特性，所得结果说明多层膜的结构完整，周期参数正确：分析 了Ag和zr衰减膜中的杂质古量与分布及其对衰减膜特性的影响．并对衰减系数进行了修正： 探索了C。HB+A1复合衰减膜的制备方法。为实验提供优质的靶和衰减膜。 关键词软X射线多层膜衰减膜随机数磁控溅射 1引 言 光学技术是人类认识自然和改造自然，获取和传递信息的有利工具。近年来，随着科 学技术的飞速发展，人们正努力将红外、可见光与紫外波段发展起来的技术拓展到极紫外 和软x射线波段。多层膜在这种拓展中被誉为是革命性的，它的深入发展将正入射光学系 统延伸到极紫外和软x射线波段，并取得了极大的成功，例如在软x射线天文观测、软x 射线显微术、极紫外光刻以及同步辐射应用和等离子体诊断等许多领域内得到应用…。目 前制作的多层膜主要是周期多层膜，随着应用的深入，人们对改变现有周期多层膜的兴趣 越来越大。对不吸收物质，可以通过将许多窄带膜系叠加起来得到较大的带宽，以及有规 律地变化多层膜的周期厚度，以获得较大带宽的多层膜。但在软x射线波段，由于所有材 料都有吸收，上述两种方法不完全适合，因此要探索新的方法。有些人““用某一周期厚 度为起始值，线性改变周期厚度，从而得到带宽较宽积分反射率较大的多层膜，但这种方 法得到的宽带有一定的限度。Loevezijn等人“1报道了一种基于随机数的宽带多层膜的设 计方法。本文改进了文献4的方法．分别对不同应用的多层膜进行了设计和性能模拟。采 用磁控溅射法完成了～io／Si多层膜的制备。用x射线衍射、俄歇电子谱和卢瑟福背散射谱 研究多层膜内的成分和结构，反射率相对测试表明所制备的多层膜达到了预期的目标。 衰减膜是软x射线实验尤其是x射线激光实验中不可缺少的元件”I，针对目前x射线 激光的主要应用方向，我们开展了Ag、Zr和CBH8+AI等衰减膜的研究，本文给出了相应 衰减膜的制各及参数测量，这些衰减膜成功地用在x射线激光实验中。 二、软x射线多层膜的研究 在多层膜设计过程中，需要解决两个问题．其一是镀膜材料的选择，这方面的工作已 经研究的比较深入了。不同的波段有不同的材料组合，例如：在12．扣20．0rua波段，Mo／Si 是目前公认最好的多层膜材料组合。其二是确定膜层的厚度分布，对一般的周期膜系．每 一种材料的厚度是相同的。因此，在设计时．主要是针对不同的用途，确定多层膜的厚度 一63— 分布。根据用途不同．设计了不同多层膜。 确定多层膜的膜厚分布问题，实质上是一个优化问题。在这个优化过程中，需要明 确如何改变膜层的厚度，怎样选择评价函数，如何考虑膜层间的误差和确定初始条件等问 题。在我们的设计中．我们用随机改变膜层厚度的方法来改变膜厚．评价函数则是根据应 用的不同选择不同的形式，膜层间的误差则是用普遍采用的德拜沃勒因子。在一般情况下， 初始条件都是用周期多层膜。普通的周期性多层膜也可用我们的方法进行设计，在设计时 评价函数为 J (I) ．MF=可丑，口』—’Maximum《^=南，口=oo 在某一区域内．积分反射率最大的评价函数选为： MFk=卜、R。以 (2) ●‘l|111 虽然用上述评价函数得到的积分反射率有一定的增加，但反射率曲线形状不好，这对于应 用十分不利。为此．设计了在某一波段内反射率平坦的多层膜，其评价函数为： e沁一岛)2dA