电沉积纳米金属多层膜的研究.pdfVIP

生产技术学会第六届年奇论文集 电沉积纳米金属多层膜研究 桂枫姚素菝窦升鹏 (天津大学化工学院300072) 摘要：本文分别采用单糟法年口舰槽法电沉积制备Cu／Ni多层膜．研究了两种电沉积方 法刳备多层膜的工艺条件，并利用俄歇电子能谱和扫描电子五微镜(s日0确定镀层结构。 通过对比分析了单糟法和双槽法制备多层膜的优缺点。 关键词：电沉积金属多屡膜 r：fodulated 金属多层膜。又称组分调制台金(C∞position alloys，简称C撇)，是 一种金属或合金沉积在另一种金属或台金上形成的组分或结构周期性变化的材料。多层 膜中相邻两种金属或台金的厚度之和x称为多层膜的调制波长o’．当^为l-lOOm时称 为纳米多层膜．其尺寸介于非晶态材科和常规晶体材料之间，微观结构不同于常规晶态 材料，表现出长程无序、短程有序的微粒捧列结构．这种材料在结构上具有纳米尺寸，因 而表现出“尺寸量子效应”…，因此，这种材料具有特殊的光学、机械、力学、 电磁 学、耐蚀、耐磨、巨弹性模量等特殊性能。自1921年Bl啪采用取槽法制各出多层膜“‘， 尤其是1988年