C-%2c60-%2f氟金云母复合膜光吸收谱探究.pdfVIP

第18卷 材料科学与工程 增刊 V01．18 Materials ScienceEngineeringSep．2000 C60／氟金云母复合膜光吸收谱研究木 邹云娟，宋雪梅，严辉，陈光华 (北京工业大学应用物理系，北京100022) 【摘要】用热壁外延法在氟金云母上生长出了高质量C∞薄膜，用原子力显微镜观察了样品 的表面形貌，并测量了不同厚度C∞薄膜的紫外一可见吸收光谱。由近带隙区的透射及反射光谱，经 计算得到了吸收系数与入射光子能量的关系，并利用Tauc公式确定了C∞薄膜的光学带隙。 【关键词】C∞吸收光谱光学带隙 1前言 2实验 由于C柏具有独特的结构和物理化学性 本实验所用C∞薄膜由热壁外延法在氟 质，在光学、电子学及制备新的衍生物方面蕴 金云母上制备，生长室为一端开口的石英管， 藏着广泛的应用前景，因此．近年来人们对C∞ 开口端与真空系统相连。蒸发沉积前取少量 及其他富勒烯分子材料进行了大量的研究．高 C砷粉末放入石英舟中，在6．6x10一Pa的高真 空下，加热到573 质量的Ck外延膜或单晶膜是进一步深入研究 K左右保持几小时，然后 和实现其在光电器件上应用的基础。我们以前 将石英舟加热到673～723 K开始蒸发沉积， 的研究表明lI．21，氟金云母村底具有弱表面键， 沉积速率为O．1ntrdmin．沉积时衬底温度控 且与C曲晶格匹配较好，其问弱的相互作用使 制在393～453K范围内。实验设各及详细的 得在氟金云母上容易生长出结晶较好，甚至取 实验条件见文献11埘．用OMICRON Compact 向的C∞薄膜，从而为进一步深入研究C柏的 LabSPM原子力显微镜(AFM)观察了薄 各种性质奠定了基础。 膜的表面形貌，C∞薄膜的紫外．可见吸收(透 UV．3 材料的光吸收是标志其光学、热学性质的 射)、反射光谱在Shimadzu 101(PC)分 重要参数，对光吸收谱的研究可以得出许多关 光光度计上获得的。 于薄膜能级跃迁、电子态密度以及光学带隙的 信息。本工作利用热壁外延法在氟金云母衬底 3结果与讨论 上制各出了高质量的C∞薄膜，测量了样品的 紫外．可见吸收谱，并由近带隙区的透射和反 射谱确定了C∞薄膜的吸收系数及其光学带隙 图l为氟金云母衬底上生长的C∞薄膜的 值。 典型的AFM图，该样品厚约150nm。从图l 可以看出C∞薄膜在氟金云母衬底上结晶良 ’北京市自然科学基金及北京市科千局青年科技基金资助项目。