化学镀双层镍工艺地研究.pdfVIP

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9) 第四届全厘化学镀会议论文集(1998 化学镀双层镍工艺的研究 李宁宋学兵王春生 (哈尔滨工业大学应用化学系哈尔滨150001) 袁国伟 (广州二轻工业研究所广州510170) 摘要采用两种不同的化学镀镍液,获得了稳定电位著为170mV以上的双层化 学镀镍层,有效地降低了镀层孔隙率,同时提高了镀层自身的耐腐蚀性能。 关键词化学镀镍 双层电位差孔隙率 耐蚀性 1.前言 由于化学镀镍层具有诸多优异性能,其应用范围也日益广泛,但是镀层易在沉积过程 中生成针孔,因而作为阴极镀层的Ni—P合金只有处于无iL状态下,才能在石油管道以及化 工设备等方面得到应用。这在实际生产中是很难实现的,为了降低孔隙率,人们采用了多 种方法,如加厚镀层、抛光镀前表面、在镀液中添加防针孔剂、搅拌溶液等等,但效果均不 理想。于是人们考虑借鉴多层电镀镍的办法,采用双层化学镀镍来提高其耐蚀性(1。“,然 而在采用化学镀镍工艺的日常生产中,保证两层间较大的电位差是很困难的。本研究的目 的就是要获得两种能在相同温度、相同pH值条件下层间电位差大于150mV的双层镀镍层。 2.所用材料、设备及试验方法 2.1实验材料 本研究所用化学药品均为分析纯试剂,所用试片为50X30Xlmm的冷轧低碳钢, 2.2施镀工艺流程 ● f 2.3镀层厚度测试方法 擎 采用数字千分尺,定点测量试片镀前与镀后的厚度,三平行取数据,其厚度差为镀层 的厚度 2.4镀层孔隙率的测试 按ASTM5979标准中的贴滤纸法进行测试,每个数据测三次取其平均值。 2.5镀层舍磷量的测试 采用美国产TN--5502型x.射线能谱仪进行测量。 2.6.耐蚀性的浏试 2.6.I电化学方法 一25— 5m//IHc[水溶液中相对于饱和甘汞电极的稳定电位,辅助电极采用Pt电极。 2.6.2.点滴硝酸试验法 在所镀的干净试片上点滴0.2ml的浓硝酸,记录镀层变色的时间。 2.7.双层化学镀镍体系的确定 按题目的要求,经过初选。决定在下述表l所示的6种体系中选出两种含磷餐不同、 自腐蚀电位相差大的溶液作为双层化学镀镍液体系。 表1.待选的6种化学镀镍液体系 镶液的组成及规范 A B C D E F 7H O(以) 25 30 32 30 25 15 NiS042 NaHPO H O(叽) 23 20 24 30 25 30 2 2 2 乳酸(m札) 12 5 0 10 10 10 Ac(g,1.) t0 15 10 15’ 10 10 NHd 拧檬艟钠(学仉) 10 i0 jO J0 0 15 络台剂M(㈣ 0 0 O 10 O O IKO

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