化学镀Ni-P合金复合稳定剂地研究.pdfVIP

’化学镀Ni．P合金复合稳定剂的研究 尹国光 (泉州师范学院化学系，福建泉州362000) 在化学镀镍过程中，由于镀液存在外来的或还原反应产生的固体微粒或胶体粒子，这些微粒比表面 积大，具有催化活性，容易生成金属镍颗粒，导致化学镀镍溶液自发分解。当镀液装载量过大或pH值过 高时，也会引起镀液失效。因此，选用合适的稳定剂对实用的化学镀镍溶液尤为重要。稳定剂可优先吸 附在其活性微粒上，抑制微粒的镍磷沉积反应，，阻止镀液的白发分解。而在工件表面，由于镍的沉积速 度大于稳定剂吸附发生毒化的速度，使化学镀得以正常进行【1】。但稳定剂的加入对镀液沉积速率和镀层 性能有较明显的影响，单一的稳定剂很难同时满足镀液稳定性、沉积速率和镀层性能以及环保的要求。 本研究的前期工作对醋酸铅、硫脲、KI、K103和Na2S203等做了大量复合试验，筛选出一种复合稳定剂。 该稳定剂由不饱和有机酸、无机盐和含硫化合物等复配而成，协同作用效果好，不含重金属离子等有害 成分，添加量少，镀液和镀层综合性能较好。 本试验的工艺流程如下：化学除油一酸洗一活化一化学镀镍～吹干。 化学镀镍的基础镀液成分及工艺条件如下：NiS04“6H20289／L，NaH2P02H20329／L，乳酸20ml／L，辅 1．2dm2／L，施镀时间lh，机械搅拌速度i50rpm。 试片采用40mm×40nun×lmm的A3钢试片。 计【2】． 镀液沉积速率用增重法测定。镀层孔隙率试验按GB5935．86采用贴滤纸法。耐蚀性试验采取浓硝酸 镀层形貌，用电子探针测量镀层P含量。试验结果见表1。 表1．复合稳定剂ZD对化学镀镰溶液和镀层性能的影响 1．Effects stabilizerZD Table of ontheelectrolessNi-P solutionand compound plating coating properties um／h 由表1可知，随着复合稳定剂含量的增加，化学镀镍溶液稳定性明显提高，沉积速率上升到19．3 后逐渐下降。说明ZD对镀液不但有良好稳定效果，而且有一定增速作用，但过量后会占据试片催化活性 中心，降低铰速。当ZD含量为25 mg／L时，镀层孔隙率最低，耐蚀性最好，且其它性能指标也较高。 试验序号4的化学镀镍层扫描电镜结果见图l，电子探针测试结果见图2。 由图1可见，当稳定剂含量为25mg／L时，所得化学镀镍层平整、细致、均匀、无孔隙，说明加入 适量的ZD稳定剂，有细化晶粒和整平作用。图2测试结果表明，镀层含磷量为wp9．37％．10．53％，属高磷 镀层，这也是镀层光亮度和耐蚀性均较好的原因． 联系人简介：尹国光(1956．)，副教授，主要从事表面技术的研究和教学。 a．5000× b．20000× 图1．4号试片镀态SEM形貌图 ofNo．4 Fi91．SEMmorphologysample t暮T早矿霄肆——————一．鼍蔫兀亭『赙琴了—●—一： i ： 疵I如妇： 氍一l摹F孵!}+一 矗酷二_b墅匕__L——二—————j j邕‘U墅岂—三_——王—————一： a． wD9．37％ b． w,10．53％ 图2．4号试片电子探针测试结果