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真空科学与技术学报 第24卷增刊
AND
JOU】RNALOFVACUUMSCIENCE 2004年12月
TECHNOIIK；Y(C砌妣。)
石英衬底上的BP戈N1一戈薄膜沉积及P对其
光学带隙调制的研究
张溪文+ 徐世友韩高荣
(硅材料国家重点实验室，浙江大学材料系浙江大学杭州310027)
Induced BandModulationof Films
PhosphorOpticalGap BP工NI—x
Xiwen+，XuandHall
Zhang Shiyou Gaorong
SiliconMaterials
(StateKeyLaboratory Science，Zhej洳g
of Uni％r*ity，Ho蟛．hou，310027，Ch／na)
filmswere on hotfilamentassistedRF enhancedchemical
quartz
Ah嘣BP．N1一#thingrown gI躐substmtesby plasma vapor
filmswerecharacterizedwith
dposifion(HF-PECVD)．The X-raydiffraction(XRD)，energydispersiveX-my
results
electron ultravioletandvisible showthatthe detemainesthe
microscopy(SEM)，and hshtabsorptionspectroscopy．The phosphorco．ntent
band ofthefilm．Asthe increasesinthefilm its bandnalTOWS．Film
opticalgap phosphorushydrides(PHs)flow growthopticalgaP
film
varieswitllthe small ballsonthe surface．
depositiontime．ending
up诵tll polycrystalline
thin
films，P
KeywordsBPxNl一X band—gap
doping，optic
状况，以及P元素掺杂对B如N1一，薄膜材料光学带隙的调制规律。结果表明，所沉积薄膜具有多晶团聚、定向生长的特点，其
表面形貌随时间而变化，最后发展成多晶球状密堆成膜，与石英衬底结合牢固。BPxN。一x薄膜的磷元素相对含量随磷烷流量
增加而增加，光学带隙相应窄化。通过控制磷的掺杂量可以有效调整该薄膜材料的光学带隙。
关键词BPxNl—r薄膜磷掺杂光学带隙
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