掺硼B非晶硅a-SiH材料固相晶化SPC的研究.pdfVIP

掺硼B非晶硅a-SiH材料固相晶化SPC的研究.pdf

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。 第 卷 第 期 太 阳 能 学 报 , 年 月 , 人 人 掺硼 非 晶硅 一 材料 固相 晶化 的研究 于振 新 孙 云 世国 孙 温元 瑞 耿 华 刘 钟林 徐 南开 大学光 电子 薄膜器件与技 术研究所 , 天津 文摘 对掺硼 材料 的固相晶化进行 了研究。 通过对 不 同掺 浓度 的 一 样品退火前后 的 、 、 、 射线衍射 光 吸收系数 电导率 激活能及 迁移率 的测量发现, 原子在 固相 晶化过程 中起 晶核作用 , 晶化后 的样品具有较 高的迁移率及 电导率, 同时具有较大 的禁带宽度。 当掺 浓度 仅 , 一 , , 么 一 ’ 一 , , 。‘ 。 为 一 编时 晶化后样 品的 电导率为 迁移率为 禁带宽度 该材料是一种较好 的太 阳

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