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PLD法制备透明ZnO薄膜的主要点缺陷研究.pdf
第 卷第 期 压 电 与 声 光 ｌ．３６Ｎｏ．２
３６ ２ Ｖｏ
年 月 ｒ．
２０１４ ０４ ＰＩＥＺＯＥＬＥＣＴＲＩＣＳ＆ ＡＣＯＵＳＴＯＯＰＴＩＣＳ Ａ ２０１４
ｐ
文章编号： ２４ （ ） ０２ ０３
１００４ ６０
－ － －
Ｄ法制备透明ＺｎＯ薄膜的主要点缺陷研究
ＰＬ
， ，
赵志娟 丁玲红 张伟风
（ ， ）
河南大学物理与电子学院 河南省光伏材料重点实验室 河南开封 ５００４
４７
： （ ） 。 ，
摘 要 采用脉冲激光沉积 法在石英衬底上制备了 薄膜 为研究 Ｚｎ 薄膜内部主要点缺陷 我们
Ｄ ＺｎＯ Ｏ
ＰＬ
（ ） ， 、 （ ） 。
用 单晶与 薄膜作对比 并进行了霍尔测试 线衍射 和光学透射谱等基本表征 霍尔测量得
００２ ＺｎＯ ＺｎＯ Ｘ ＸＲＤ
到的高的霍尔迁移率及 ， ， 。 ，
Ｘ 图表明 制备的 薄膜结晶良好 具有沿 轴高度择优取向 同时 薄膜衍射
ＲＤ ＺｎＯ Ｏ
ｃ Ｚｎ
。 ， ，
峰相对于单晶向大角度方向发生了漂移 透射谱表明 Ｚｎ 薄膜在可见光区透过率为 吸收带边相对于单晶
Ｏ ７５％
。 （ ）。
发生蓝移 各种表征手段证明 Ｐ 法制备的 薄膜主要点缺陷为 填隙
ＬＤ ＺｎＯ Ｚｎ Ｚｎ
ｉ
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