Al-N共掺p型Zn0.95Mg0.05O薄膜的性能.pdfVIP

第 卷 第 期 半 导 体 学 报 年 月 共掺 型 薄膜的性能 简中祥 叶志镇 高国华 卢洋藩 赵炳辉 曾昱嘉 朱丽萍 浙江大学硅材料国家重点实验室杭州 摘要利用直流反应磁控溅射法以 为 掺杂源用 共掺技术制备了 型 薄膜 用 射 线衍射分析 测试仪和紫外可见 透射谱等研究方法对其晶体结构电学性能和禁带宽度进行分 析 分析结果表明 薄膜具有良好的晶格取向 测试的结果所得 型 薄膜最 低电阻率为 载流子浓度为 迁移率为 透射谱所推出的薄膜禁 带宽度中纯 型 和 型 分别为 和 可以看出 在 禁 带宽度中起了调节作用 关键词 型掺杂薄膜 中图分类号 文献标识码 文章编号