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同一芯片上制作变周期布拉格光栅的改进全息曝光法(英文).pdf
第 26 卷 第 7 期 半 导 体 学 报 Vol . 26 No . 7
2005 年 7 月 C H IN ESE J OU RNAL O F SEM ICONDU C TOR S J uly ,2005
Modif ied Holographic Exposure to Fabricate Varied Bragg
Grating in an Identical Chip
Xie Ho ngyun , Zhou Fan , Wan g Baoj un , Yan g Hua , Zhu Ho nglian g ,
Zhao Lingj uan , an d Wan g Wei
( )
I ns t it ute of S em icon d uct ors , Chi nese A ca demy of S ciences , B eij i ng 100083 , Chi na
Abstract : A new fabricating met ho d i s demon st rat ed to realize two different Bragg gratings in an identical chip u sing
t raditional holo grap hic expo sure . Polyimide i s u sed to p rot ect one Bragg grating during t he fir st p eriod . The t echnical
p rocess of t hi s met ho d i s as simp le a s t hat of st andar d holograp hic expo sure .
Key words : holograp hic grating ; D FB la ser ; multiwavelengt h ; CWDM
PACC : 7865P ; 7960 ; 9575D
CLC number : TN2484 Document code : A Article ID : 02534 177 (2005)
band co mmunication s and e sp ecially for met ropoli
1 Introduction t an net wor k s. Low co st an d simp licit y of light
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