退火温度对溅射Al膜微结构及光学常数的影响.pdfVIP

( ) 2005年 5月 安徽大学学报 自然科学版 M ay 2005 第 29卷 第 3期 Journal of A nhu i U n iversity N atural Science Edition Vol. 29 No. 3 退火温度对溅射 A l膜 微 结 构 及 光 学 常 数 的 影 响 宋学萍 ,王佩红 ,孙兆奇 (安徽大学 物理与材料科学学院 ,安徽 合肥 　230039) 摘 　要 :用直流溅射镀膜工艺在室温 Si基片上制备了 250nm 厚的 A l膜 ,并用 X射线衍射及反 射式椭偏光谱技术 ,对薄膜的微结构和光学常数在不同退火温度下的变化进行了测试分析 。结构 分析表明:退火后的 A l膜均呈多晶状态 ,晶体结构仍为面心立方 ; 随着退火温度由室温 20 ℃左右 ( ) 升高到 400 ℃,薄膜的平均晶粒尺寸由 22. 8nm 增加到 25. 1nm ;平均晶格常数 4. 047 略比标准 值 4. 04960 小 。椭偏光谱测量结果表明: 2600 ～8300 光频范围内,退火温度对折射率 n影响较 小, 对吸收系数 k 的影响较为明显 。 关键词 :微结构 ;光学常数 ;退火温度 ;椭偏光谱 ( ) 中图分类号:O484. 41; O484. 1　　文献标识码 :A　　文章编号: 1000 - 2162 2005 03 - 0033 - 04 金属薄膜是当前高技术新材料开发中最活跃的领域 ,是功能材料从三维向低维材料发展的必然 趋势 ,也是近年来发展得最快的前沿阵地 。金属膜因其独特的光学性质 ,引起人们的极大兴趣和广泛 应用 [ 1 ] 。在表征薄膜性能的诸参数中 ,薄膜的微结构和光学常数不仅是光子器件和光子器件设计中 不可或缺的参数 ,而且也是开发新型光电材料的一个重要依据 [ 2 ] 。 在所有金属材料中 , A l不但具有仅次于 Au , A g, Cu3种金属的良好导电性和导热性 ,而且具有 良 好的耐腐蚀性 、反射性 、吸音性和耐核辐射性能等优 良性质 。因此 A l及 A l合金在电子 、航空和航天 领域均获得了广泛的应用 。而 A l膜的微结构和光学常数在微电子技术和光电子技术以及复合薄膜 的设计和性能分析中有着很重要的实际应用意义 [ 3 ] 。 薄膜的性质与微结构关系密切 ,微结构决定薄膜的性能[ 4 ] 。对于一定厚度的薄膜 ,后处理对薄 膜的微结构有较大影响 ,随着退火温度的变化 ,薄膜的结构变化明显 ,从而导致薄膜的光学常数也与 退火温度关系密切 。因此对 A l膜在不同退火温度下的微结构及光学常数进行深入研究有着重要的 基础和应用意义 。 采用 X射线衍射技术及动态椭圆偏振光谱技术对在 Si基片上直流溅射制备的 A l膜的微结构和 光学常数进行了研究 , 以揭示制备工艺条件 ,退火温度对薄膜微结构及光学常数的影响 。 1　实 　验 ( ) 制备 A l膜的基片采用单面抛光的 Si 111 基片 ,厚度为 525 ±25um 。在溅射镀膜前 , Si基片经过 超声波清洗 ,烘干后置于干燥缸内备用 。 用 JGP560 I型超高真空多功能磁控溅射仪直流溅射方法在 Si基片上制备厚度为 250nm 的 A l 膜 。膜厚由石英晶体振荡膜厚仪监控 。镀膜时 ,基片温度为室温 , A l靶材的纯度为 99. 99% ,本底真