硅离子注入聚合物表面改性的研究.pdfVIP

( E 辑) 第33 卷 第 1 期 SCIENCE IN CHINA ( Series E ) 2003 年 1 月 硅离子注入聚合物表面改性的研究* 吴瑜光 张通和 刘安东 张 旭 (北京师范大学射线束技术和材料改性教育部重点实验室, 北京师范大学低能核物理研究所, 北京市辐射中心, 北京 100875) 周 固 (北京师范大学分析测试中心, 北京 100875) 摘要 采用MEVVA 离子注入机引出的Si 离子对聚酯薄膜(PET)进行了改性研究, 原 子力显微镜观察表明, 注入后的聚酯膜表面比未注入 PET 更光滑. 用透射电子显微镜 观察了注入聚酯膜的横截面表明, 注入层结构发生了明显的变化. 红外吸收测量揭示 了Si-C 和C-C 的形成. 说明了碳化硅和碳颗粒的形成. 这些颗粒增强了注入层表面强 化效果, 改善了表面导电特性. 表面电阻率随注入量的增加而明显地下降. 当硅注入量 17 2 为2 10 cm 时, PET 表面电阻率小于7.9 ·m. 用纳米硬度计测量显示, Si 离子注入 可明显地提高聚酯膜表面硬度和杨氏模量. 表面硬度和杨氏模量分别比未注入 PET 时 大12.5 和2.45 倍. 硅注入表面划痕截面比未注入PET 的划痕窄而浅. 说明表面抗磨损 特性得到了极大的增强. 最后讨论了Si 离子注入聚酯膜改善特性的机理. 关键词 Si 离子注入 摩擦特性 表面结构变化 聚合物表面强化机理 高分子聚合物是一种应用广泛的材料, 但有一定的局限性. 而离子注入高分子聚合物表 面改性是当前国际上极为关注的研究课题. 采用离子注入可有效地改善聚合物表面物理和化 学特性, 例如提高表面硬度, 增强抗磨损特性, 改善导电性和光学特性, 使表面抗静电, 有些 [1~3] 聚合物经过离子注入后与生物体具有相容性, 可做生物材料等 . 近年来许多科学工作者用 多种离子, 在较宽的能区, 对多种聚合物材料进行了离子注入研究. 在改善聚合物表面的硬度 [4~6] 和抗磨损特性方面, 取得了很好的效果 . 有人研究过Ar 离子注入含硅的聚合物, 测量到了 [7] [8,9] SiC 键的的形成 , 仅有少数论文涉及到金属离子注入 . 本文给出了用金属蒸汽真空弧 (MEVVA)离子源引出的 Si 离子注入聚酯薄膜(PET) 改性研究结果,对注入表面微观结构 电 特性和机械特性进行了测量和分析, 讨论了表面强化机理. 1 实验方法 实验样品选用电子工程领域已广泛应用且成本低廉的聚酯薄膜(PET), 它具有复杂的分子 结构, 离子注入改性效果明显, 膜的厚度为99 m. 离子注入是用北京师范大学低能核物理研 2 究所研制的MEVVA 离子注入机完成的. 选用的加速电压为40 kV, 离子流密度为4.5 A/cm , 注入剂量范围5 1015 2 1017 cm2 . 从 MEVVA 源引出的 Si 离子有3 种电荷态, 其平均能 量为66.4