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薄膜问题讨论.ppt
薄膜问题和其它系统的最优方案 用于反应溅射的闭环控制 Lambda 探测仪 残余气体分析仪（RGA） 等离子体发射监控器 (PEM) 外部电压控制 新的 Crystal? 电压控制 带有多倍射频供应的公共激励振荡器 (CEX) 和相移 交流阳极下降 气流均匀性 薄膜应力和粘着力 溅射速率 SiO2二氧化硅 结晶控制 厚度 AZO氧化锌铝 vs. ITO 氧化铟锡vs. CdSte 每种陶瓷的成本 (合金, 联合溅射, 等等.) 薄膜问题 提问与解答时间 Film Issues薄膜问题 Doug Pelleymounter Ken Nauman 高级应用工程师 SLIDE # * 订阅 AE 的 Flat Panel FocusSM 电子新闻 订阅AE的 Flat Panel FocusSM、 PV Sun TimesSM 和 Sputter SpotlightSM电子新闻 ，可以随时掌握当今制造业领域中最迫切的问题，订阅地址： /register.aspx 如需谘询与FPD制造业有关的问题，请发送电子邮件到： FPDapplications@ 如需谘询与光电（PV=Photovoltaics ）制造业有关的问题，请发送电子邮件到： PVSunTimes@ 如需谘询与溅射应用有关的问题，请发送电子邮件到： Sputtering@ Nasdaq?GM: AEIS www.advanced-energy.co.kr www.advanced-energy.co.jp www.advanced-energy.de .tw ENG-FilmIssues-150-03 9/24/2008 Specifications are subject to change without notice. Advanced Energy?, Crystal?, Flat Panel FocusSM, PV Sun TimesSM, and Sputter Spotlight? are U.S. trademarks of Advanced Energy Industries, Inc. ? 2008 Advanced Energy Industries, Inc. All Rights Reserved.
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