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第36卷增刊 材料保护 V01.36No.9
2004年9月 MATERIALSPROTECTION Sep.2004
金属铜表面巯烃基硅烷膜的自组装及其耐蚀性能研究
林克发黄令杨防祖许书楷周绍民
(厦门大学化学系,固体表面物理化学国家重点实验室,厦门,361005)
[摘要]采用自组装技术在铜电极表面上制备了巯烃基硅烷自组装膜,利用红外光谱研究了自组装膜结构,
运用电化学方法考察研究了巯烃基硅烷在5%NaCI溶液中对铜的缓蚀性能。结果表明自组装膜在不同的浓度范围内
均表现出很强的抗腐蚀性。
【关键词] 自组装防腐蚀缓蚀效率巯烃基硅烷
【中图分类号】TGl74.2[文献标识码]A
1前 言 铜电极表面上也存在被物理吸附的巯烃基硅烷分子,为了
除去这些被物理吸附的分子,用大量无水乙醇冲洗电极。
自组装膜在金属腐蚀和防护方面具有广阔的应用前
2.4 电化学测试和光谱分析
景,巯烃基硅烷((CH30)3si一(Cll2)3一SH)由于具有两
线性极化曲线测试在CHl660A电化学工作站中进行,
亲性而被广泛地用于自组装膜的研究。巯烃基硅烷
极化曲线测量的电位范围为0.0V一0.6V,扫描速率为
(Mrrs)膜由于具有两亲性,对铜的腐蚀均有十分良好的
50mV/s,所有的测试温度均为(20±2)℃。红外光谱分析
缓蚀作用¨oJ。MekhalifZ.等¨1人用xPS研究了巯基硅烷
在ne瑚oNicolet360系统进行o
(MPTS)在铜表面自组装行为,认为二次修饰能够从膜的
覆盖度50%提高到84%It,2]。因为巯基在金属表面上的
3实验结果与讨论
SAMe具有致密、稳定等特性。但作为一种高效的缓蚀剂,
对其作用机理和电化学特性的研究却很少…。本工作就
3.1 MPlrs浓度对铜电极抗腐蚀性能影响
巯烃基硅烷(MPTS)在5%NaCI溶液中对铜腐蚀电化学行
图1为不同浓度MPTS处理后的铜电极在5%NaCI溶
为的影响规律和巯烃基硅烷(MPTS)膜结构进行研究。
h。从该图上可以看
液中的线性极化曲线。处理时间为24
2实 验 出,同一浸渍时间内,随着MPTS浓度(O.001%一l%)的增
大,阳极电流逐渐降低,所得cu电极的耐腐蚀性不断增
2.1电极制备 加,表明MPTS浓度的增大有利于cu表面抗腐蚀性。曲线
b(o.001%)、c(O.01%)由于浓度相对低,形成的膜结构不
铜电极(纯度99.9%以上)用环氧树脂密封制成,电
完整,致密,随着电位增加,腐蚀电流不断上升,虽然相对于
极面积为lem2。测量前,铜电极用1#、4#、6蝴}相砂纸逐级
空白的铜电极腐蚀电流下降,没有表现出明显的钝化特征。
打磨后用丙酮、无水乙醇除油,再经电解
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