多羟多胺在微电子CMP及清洗技术中应用.pdfVIP

多羟多胺在微电子CMP及清洗技术中的应用 刘玉岭 高宝红 檀柏梅 周建伟 王 胜 利 牛新环 河北工业大学微电子材料研究所，天津300130 摘要：采用乙二胺四乙酸四 （四羟乙基乙二胺）简称多羟多胺，它具有四个胺基、十六个羟基，无金属离子， 与水互溶，并具有十三个螯合环，其在微电子中的应用效果完全优于国内外通用的乙二胺四乙酸二钠盐(ED TA)螯合剂。将该试剂用于GLSI多层铜布线化学机械平整化抛光(CMP)中，同时起到络合剂、螯合剂、胺 化剂、助氧剂、pH调节剂、缓冲剂、缓蚀剂的作用，一剂多功能，提高了性能，节省成本，简化工艺，实现 CMP抛光液的碱性化重大突破。清洗剂中加入该试剂，代替通用EDTA二钠盐将金属离子降两数量级。在其他 多种材料领域平坦化超精密加工应用中也取得了显著的效果。 关键词：多羟多胺；螯合剂；CMP；抛光液；清洗剂 Multi-HydroxypolyaminesCMPandcleaningin microelectronicstechnology LIUYulingGAOBaohongTANBaimeiZHOU JianweiNIUXinhu