真空镀膜的的研究性课题3.pptVIP

真空镀膜研究性课题（2013参考） 热蒸发镀膜 1. 蒸发与膜厚测量（2~3组） 蒸发不同测材料，尝试多种膜厚的测试方法，比如干涉显微镜、椭偏仪、红外吸收、AFM等。针对不同的膜厚区间选择合适的测量方法。如果有自创想法更好，比如用激光光斑打在台阶处，看能否形成干涉条纹。用此法还可以对晶振仪的参数进行校正。对于吸收系数可以考虑表征薄膜的致密度。 2. 尝试合金的制备与表征 用1#仪器同时蒸发两种材料，可以用晶振仪来监测它们各自的速率，以控制合金的组分。材料选择一方面要易于形成合金，另一方面要适合热蒸发。 3. 尝试金属多层膜的制备与表征 以前有人做出来了，但是表征有些困难。要思考比较有应用的多层膜，膜层不能超过10层，否则做起来麻烦 4. 研究使金属薄膜与基底结合牢固的方法 一般金属薄膜热蒸发沉积在玻璃衬底上容易脱落，但是如果预先蒸上或者溅射上一层Ti作为中间层，则最终镀上去的金属薄膜会很结实 5. 研究金属薄膜的剥离方法 前年做了Ag，这个结果拿了竞赛一等奖。可以考虑其它材料，而且剥离较薄的材料，尺寸可以小一些，然后剥离下来的可以研究红外吸收性能。 6. 在衬底上镀Ag，然后研究他们的SERS性能（1~2组） Ag是SERS性能较好的材料，衬底选择可以是硅、玻璃、毛玻璃、石墨烯等，并比较它们的增强效果。其中后面两种可能性能提高会较大。而且还可以研究镀Ag厚度与SERS性能的关系。 7.定量研究薄膜厚度与镀膜条件的关系 真空镀膜制备的薄膜厚度与真空室清洁程度、本底真空度、基体温度、溅射功率、溅射气体压力、靶材纯度等条件有关。 主要是改变材料（Al、Cu、Ni、Ag等）、镀膜功率（通过调节施加在蒸发舟上的电压和电流）、镀膜时间。比较建议用Cu，价格便宜而且蒸发稳定，比较容易调节的有镀膜功率，镀膜时间等。 9. 用AFM来研究薄膜的生长机理 10. 金属薄膜的吸收、反射、透射研究 11. 金属薄膜对辐射的吸收 12. 薄膜表面放电现象的研究 13. 薄膜附着力研究，可以考虑镀中间膜层以增加附着力 14. 在低真空实验中充入不同的气体，比如N2，He等，可以观察不同的气体在不同气压下的放电现象（五颜六色），并分析原因。而且可以尝试封装起来，做成一个“灯泡”并测试光谱。 15. 改造干涉显微镜：用摄像头来采集干涉图像，方便读数和展示；是否改用激光来作为光源，因为普通的半导体激光器很便宜，我们对激光波长范围和功率要求很低。 溅射镀膜 1. 溅射ZnO薄膜并进行表征和测试（1~2组） 我们有新的溅射镀膜机，ZnO薄膜的质量与衬底温度、溅射速率、氧分压等都有关系，作为新的仪器需要来研究合适的实验参数。表征方面可以做XRD、SEM、椭偏仪等，测试方面可以做PL、吸收等。可以研究不同的实验参数对结构、成分、性能的影响。 2. 溅射SiO2、Al2O3 主要是研究他们的溅射条件，而且他们电阻较大，经常作为绝缘层，可以做很薄。 3. 溅射TiO2并进行表征和性能测试（1~2组） TiO2表征可以通过SEM、XRD来进行，溅射条件也是衬底温度、溅射速率、氧分压，还有退火温度等。它有很多有意思的性能，比如太阳能电池、光催化分解有机物、超亲水性等。对于溅射薄膜我们主要做后两个性能。比如在玻璃表面溅射一薄层TiO2，根据文献报道，在光照下会具有超亲水性，可以防止形成水滴，对于汽车后视镜非常有用。光催化可以通过在TiO2薄膜上滴加染料分子，然后进行光照来实现，具有自清洁作用 4.利用分光光度计测得石英玻璃基体TiO2薄膜试样的透射谱和反射谱，用包络线法和经验公式法计算出薄膜的光学常数。 4. 溅射镀膜晶振仪的校正 这个和镀膜有些类似，由于晶振仪特殊的工作原理，未经校正的晶振仪显示的速率是很不准的。但又有所不同，溅射有三个靶，每个都需要校正。材料可以是Al、Cu、ZnO、Al2O3等。 5. 研究半导体/金属或者绝缘体/金属的异质结的I-V特性 结合热蒸发和溅射可以制作出多种半导体/金属或者绝缘体/金属的异质结结构，然后通过给这种异质结两端加电压，同时测量回路中电流的方法来研究他们的I-V特性，并与理论计算进行比较。 6. 磁控溅射Cu膜的表面形貌演化研究，沉积温度、溅射功率、偏压等工艺参数对cu膜表面形貌的影响. 比较磁控溅射薄膜与热蒸发薄膜表面形貌，用AFM 7. 磁控溅射制备不锈钢薄膜研究 更欢迎同学们提出自己的研究课题和我们讨论实施