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ADC：实现测量数字化的必经之路 高速和低分辨率ADc经历二原来是一个全能的示波器供应商， 根据泰克的生产经验，10GHz 十年才实现取样率从1Gs，s到后来精简机构把半导体部门剥离， 测量系统的速度与单元晶体管速度 20Gs，S的进步，但缺少通用芯片可但留下一百多名工程师的集成电路 之比约为lO：1。预计Si的双极和 供使用，最近几年情况有很大改 开发和支持队伍，在高速器件方面 cMos工艺已无希望，而转为siGe 善。温故而知新，通过下文的回顾， 与IBM微电子部密切台作。两公司工艺尚待实践，放弃熟悉的 可以预期高速和较高分辨率的ADc取得成功的关键是采用siGe材料sicMOs工艺，再投入可观的研发 将有更多突破，出现更多的应用。 制作高速ADc等数字示波器前端经费，需要科学的论证。终于，泰 集成电路，当时其它竞争对手仍然 克方面迈开重要的一步，放弃si材 料而使用siGe，Ic设计人员从头学 专用ADc遥遥领先 着意开发s1的cMos集成电路。 推动ADc取得优异成果的主IBM掌握siGe的Bi