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维普资讯 李璞等 辅助气体CH 和Ar对 IBED制备碳膜性能的影响 辅助气体 CH4和 Ar对 IBED制备碳膜性能的影响 李璞 ，关凯书 ，朱晓东 ，周建新 (1．华东理工大学化工机械研究所，上海 200237；2．西安交通大学材料学院，陕西 西安 710049) [摘 要] 采用离子束辅助沉积技术(IBED)制备了一系列碳膜，重点分析辅助气体 CH 、Ar对碳膜组成相、电阻率、 厚度和硬度的影响。结果表明：采用CH 辅助轰击制得的薄膜厚度高于采用Ar辅助轰击的薄膜厚度 ；采用Ar辅助轰击的 薄膜在硬度、结合强度方面要优于CH 辅助轰击的薄膜；相对于类金钢石薄膜，所制备的碳膜更接近于类石墨膜。 [关键词] 离子束辅助；增强沉积；碳膜；类石墨膜；结合强度 [中图分类~-]TG174．444；0484 [文献标识码]A [文章编号]1001—3660(2006)04—0024—03