甘氨酸体系三价铬电沉积工艺研究.pdfVIP

第38卷 第1期 2009年2月 表表面囱孜技术不 V01．38 No．1 Feb．2009 SURFACE TECHNOLOGY 甘氨酸体系三价铬 电沉积工艺研究 雷华 山，何湘柱，舒绪刚，谢绍俊，黄林源 (广东工业大学轻化工学院，广东 广州 510006) [摘 要] 为了研 究1种以甘氨酸为络合剂的三价铬镀铬工艺，采用正交试验法确定三价铬 电沉积的最佳工艺，即0．6mol／L CrC1 ·6H，O，0．6mol／LGly，50g／LNH4C1，0．6mo~LA1CI3·6H2O，0．5mo~LNaC1，60g／LH3BO3，20g／LNaF，0．1moULKBr，适量的润 湿剂和去极化剂，pH=1．8，Jk=15A／dni ，0=20~C，时间15min。并具体讨论了络合比、阴极电流密度、时间、温度等因素对镀层厚度 和外观的影响；试验结果证明：在该种工艺下可获得光亮、呈准镜面外观、厚度达8,[Lln左右的铬镀层；且经镀层性能检测表明：该镀 层表面光亮