基于Taguchi方法的钼栅网微细光刻电解试验研究.pdfVIP

设计 ·研究 《电加工与模具5)2o~1年第1期 基于 Taguchi方法的钼栅 网微细光刻 电解试验研究 何铁 军，汪 炜 ，冯海娣 ，刘正埙 (南京航空航天大学机电学院，江苏南京 210016) 摘要：影响钼栅 网电解加工尺寸均一性的因素有电解液浓度 、电流密度、阴极直径以及极 间间 隙等。利用Taguchi方法对这些 因素进 行综合分析及 试验验证 ，阴极 直径 和极 间间隙作 用显著。 通过 ANSYS软件对 电解过程 中的电场进行分析 ，得 出了阴极 直径和极 间间隙大小的改变对阳极 表面 电场的影响规律 。在此基础上，采用酸性活化 电解液对钼栅 网进行微细光刻 电解加_T-，取得 了 较好 的试验 结果 。 关键词 ：光刻电解 ；Taguchi方法；电场分析 ；钼栅网 中图分类号 ：TG662 文献标识码 ：A 文章编号：1009—279X(2011)01—0011—04 StudyofElectrochemicalM icromachiningo