铝表面SiOx薄膜结合性能与机理研究.pdfVIP

维普资讯 第27卷 第 l期 材 料 热 处 理 学 报 Vo1．27 No．1 2006年 2月 TRANSACTIONSOFMATERIALSAND HEATTREATMENT February 2006 铝表面 SiOx薄膜结合性能与机理研究 张际亮 ， 郦 剑 ， 沃银花 ， 王幼文 ， 甘正浩 (1．浙江大学材料系 ，浙江 杭州 310027； 2．新加坡南洋理工大学电气工程系，新加坡 639798) 摘 要 ：应用化学气相沉积 (CVD))tT~在铝表面形成 SiO 陶瓷涂层 ，通过弯曲实验研究了涂层与基体 的结合性能。 利用扫描电子显微镜 (SEM)观察 了弯曲部位 的表面形貌 ，弯曲过程表述为表面凹坑与 内部孔洞联合长大，形成长条裂 纹状沟槽或突脊 ，最后裂纹长大直至断裂 。研究表 明，基底与膜层结合 良好 ，形成高结合力的原因是铝基底与表面 SiO 膜层间过渡层中的AI．O与Si．O键合能很高，键合稳定。 关键词