半导体工业废水、废气中砷、磷、硫、氟、氯及氮氧化物与重金属的综合治理.pdfVIP

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  • 2015-08-05 发布于安徽
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半导体工业废水、废气中砷、磷、硫、氟、氯及氮氧化物与重金属的综合治理.pdf

第11期 电 子 学 报 vol28 Noll 2000年11月 ACTAⅡ正∞(蚋ICASINICA Nov砌 半导体工业废水、废气中砷、磷、硫、氟、氯 及氮氧化物和重金属的综合治理 闻瑞梅 (同济大学,上海200092) 摘要:本文介绍了在半导体工业废水、废气中砷、磷、硫、氟、氯及氮氧化物、重金属及各种酸的综告治理方法、 工艺流程和设备,用中和絮凝沉降一体化装置,利用共生沉淀的原理处理废水.用椭圆型喷淋吸收塔,氧化剂、碱吸收 治理半导体工业废气中砷、磷、硫、氟、氯、氮氧化物及各种酸.经环保部门检测均达到国家排放标准. 关键词: 半导体;废水;废气;治理 中圈分类号: 州304.05 文献标识码: A A Abatement for ComprehensiveTechnology and Metals Sulfur,Fluorine,Chlorine,OxynitridesHeavy inSemiconductorWasteWaterandGases Industry WENRui.mei 200(】92,ch如) (7打耐¨∽r:r%讯r咖z A chltltand wasdescribedforcontrolof Abstract: pollution comprehensivetechnologyincludingflowsetup arsine,ph啊】110rLB, metalsand acidsin Ws.qte and Thewastewater various semiconductor Water sulfur,fluorine,chlorine,oxynitrides,heavy industry gases in the w∞treatedacombinedneutrallzation-sedimentationbasedOil of Adual setup cedepositionah∞rbing oxidantand舢IlBabsorbaIlIWfllBusedfor prineiple contailmag removing the of EnvimrtnⅢal theStateStandardof abatementconcen删oll AdufiIdstrafionmeets Emission. pollantsmudyysedby words:semiconductor;wastewater;w=astegases;.abatemertt Key l引言 备,力争治理效果好、技术先进、投资少.对从事这方面科技工

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