卤离子溶液中（NH2）2CS对Cu阳极溶解的缓蚀作用.pdfVIP

维普资讯 第 14卷 第 4期 腐蚀科学与防护技术 VO1．14NO．4 2002年 7月 CORROSION SCIENCE AND PROTECTION TECHNOLOGY Ju1．2002 卤离子溶液中(NH2)2CS对 cu阳极溶解的缓蚀作用 李 亮 ，2 王 超 ， 陈慎豪2， (1．徐州师范大学化学系 徐州 221009； 2．山东大学化学系 济南 250100； 3．金属腐蚀与防护国家重点实验室 沈阳 110016) 摘要 运用恒 电位稳态极化和暂态极化技术研究了(NH2)2CS在中性 NaF、NaC1、NaBr及 KI溶液 中对金属 Cu阳 极溶解的缓蚀作用．通过比较 Cu在 卤离子溶液与含 (NH2)2CS 卤离子溶液中的电化学行为，解释了(NH2)2CS的缓 蚀机制；并研究了扫描速率对形成CuX膜的峰电位和峰电流的影响，探讨了Cu的阳极溶解机理． 关键词 (NH2)2CS 缓蚀 Cu 卤离子 扫描速率 中图分类号 TG174．42 文献标识码 A 文章编号 1002—6495(2002)04—0211—04 INHIBITIoNoF (NH2)2CSONANODIC DISSOLUTION OFCOPPER IN HALIDE SoLUTIONS IILiang。一 W ANG Chao。一 CHEN Shenhao2·3 ， ， (1．DepartmentofChemistry，XuzhouNormalUniversity，Xuzhou221009； 2．Departmentof Chemistry，ShandongUniversity，Jinan250100； 3．StadeKeyLaboratoryforCorrosionandProtection，Shenyang 110016) ABSTRACT Inhibitionof(NH2)2CSonanodicdissolutionofcopperinneutralNaF，NaC1，NaBrand KIsolutionswasinvestigatedbypotentiostaticsteady—statepolarizationandtransient—’statepo lariza— tionmethods．Theinhibitionmechanism of(NH2)2CSwasinterpretedindetailbycomparingtheelec— trochemicalbehaviorsofcopperinhalideoslutionswithandwithout(NH2)2CS．Inaddition，theeffect ofscanrateonpeak currentandpo tentialwasstudiedwhenafilm CuX wasformed，and themecha— nism ofdissolutionofcopperinhalideoslutionswasalos discussed． KEYWORDS (NH2)2CS，inhibition，copper，halideions，scanrate Cu是相对稳定的金属，在 已除氧且不含与 Cu 对 Cu在 Cl一溶液 中缓蚀作用的研究[4--6J．近年来对 离子形成配合物 的非强氧化性物质水溶液 (如稀 (NH2)2CS 缓 蚀 机 理 的研 究 引起 了人 们 的关 H2804、Na2804溶液)中，Cu的腐 蚀速 率相 当