高纯贵金属靶材在半导体制造中的应用与制备技术.pdfVIP

2013年 11月 贵 金 属 NOV．2013 第 34卷第 S1期 PreciousM etals Vb1．34．NO．S1 高纯贵金属靶材在半导体制造中的应用与制备技术 何金江，陈 明，朱晓光，罗俊锋，尚再艳，贺 昕，熊晓东 f北京有色金属研究总院 有研亿金新材料股份有限公司，北京 102200) 摘 要：高纯Au、Ag、Pt、Ru贵金属及其合金溅射靶材是半导体PVD工艺制程中的溅射源材料， 广泛用于半导体制造工艺中，成为保证半导体器件性能和发展半导体技术必不可少及不可替代的材 料。材料的高纯化、高性能贵金属及其合金靶材的制备 (金属熔铸、热机械处理、粉末烧结、焊接 等)以及贵金属靶材残靶7ZJs~_v-余料残屑的提纯回收利用是研究发展的重点，以实现贵金属靶材产 品的高效增值。 关键词：金属材料；半导体；溅射靶材；高纯；金；银；铂；钌 中图分类号：TG146-3 文献标识码 ：A 文章编号：1004—0676(2013)S1-0079—05 ApplicationandFabricationM ethodofHighPurityPrecious M etalSputteringTargetsUsedinSemiconductor HEJinjiang，CHENMing，ZHUXiaoguang，LUOJunfeng，SHANGZaiyan，HEXin，XIONGXiaodong (GRIKINAdvancedMaterialsCo．Ltd．，GeneralResearchInstituteforNonferrousMetals，Beijing102200，China) Abstract：High—purityAu，Ag，Pt，Rupreciousmetalsandalloysmaterialtargetsmakeaveryimportant roleinsemiconductormanufacturing．Purifyingofraw materials，fabricatingofhighperformancetarget (meltingcasting，thermalmechanicalprocessing，powdersinteringandbonding，etc．)，recyclingand refiningofspentpreciousmaterialsareimportantprocessesforpreciousmetaltargetproductdevelopment andapplication． Keywords：metalmaterial；semiconductor；sputteringtarget；highpurity；Au；Ag；Pt；Ru 随着电子信息和新兴高技术产业的发展，薄膜 物理气相沉积(PVD)是制备薄膜材料的关键技 科学应用 日益广泛。电子、磁性、光 电、光学薄膜 术之一，溅射靶材是用于PVD工艺中的一个非常重 等 已经广泛应用于 以集成电路、分立器件等为主的 要的关键耗材 。在半导体制造 中常用的贵金属靶材 半导体制造、以TFT-LCD、OLED等为主的平面显 包括金、银、铂、钌等金属及合金。随着我 国半导 示面板制造和 以薄膜太阳能电池为主的新能源制造 体工业技术的不断进步和升级，贵金属靶材作为工 等领域。近年来，在国家政策大力支持下，上述高 艺制程中的重要支撑材料，其需求量越来越大。地 新技术产业均实现了跨越式发展，我 国逐渐成为世 壳中稀有金属、贵金属原生资源很少，且储量分布 界上薄膜材料的最大需求地区之一。贵金属具有 良 很不均匀，我国就是一个贵金属资源相对贫乏的国 好的化学稳定性，高 电导率和热导率，特有的电学、 家。由于半导体用溅射靶材及溅射薄膜的品质要求 磁学、光学等性能，广泛应用于高性能薄膜材料的