CVD金刚石薄膜基体材料的选择.pdfVIP

维普资讯 2004年6月 金刚石与磨料磨具工程 June．2004 Seria1．141 No．3 总第 141期 第3期 DiamondAbrasivesEngineering 文章编号：1006—852x(20o4)o3—0050—02 CVD金刚石薄膜基体材料的选择 SELECTION OFCVD D m FILM SUBSTRATES 方莉俐 (1．郑州大学物理系 郑州 450052)(2．中原工学院基础部 郑州 450007) FangLili’ (1．PhysicsDepartment，ZhengzhouUniversity，Zhengzhou450052，China) (2．Basc／Sce／nceDepartment，ZhongyuanInstituteofTechnology，Zhengzhou450007，China) 摘要：论述了CVD金刚石薄膜基体材料的性质，给出了选择金刚石薄膜基体材料的方法，并对各种材料的膜基结合 力情况作了简要评述。 关键词：金刚石薄膜；基体材料；CVD 中图分类号：TIM3。TQ164 文献标识码：A A ：11lepropertiesofCVDdiamondfilm substrateswereintroduced．Themethodsofselectingdiamondfiml substrateswere providde ，andhteadhensionconditionsbetweendima ondfiml andhtesubstratesWere summarizedaswel1． Keywords：diamondfdms；substrates；CVD 1 引言 3 CVD金刚石薄膜品质评价方法 金刚石具有优异的物理、化学性质，在所有物质中 目前常用的金刚石薄膜品质检测手段有：(1)用 具有最高的硬度，室温下有最高的热导率，极低的热膨 Raman光谱测量薄膜结构、纯度和膜内应力状况，相对 胀系数，低摩擦系数，良好的化学稳定性，大的禁带宽 于天然金刚石 1332cm 特征峰向低波数方向移动，表 度(5．5eV)，最高的声传播速度，较高的半导体掺杂性 明金刚石内应力为张应力，反之，表明膜内应力为压应 以及从远红外光区到紫外光区的光学透过性，使得其 力。(2)x射线衍射分析薄膜层金刚石的晶面结构。 在机加工、微电子、光学等许多领域有着广阔的应用前 (3)用扫描电镜观察薄膜表面形貌、成核速率和生长速 景。然而天然金刚石数量极少，高温高压合成的金刚 度。(4)用红外光谱分析薄膜红外透过率。(5)膜基界 石由于受粒度限制且价格昂贵，使金刚石的优异性能 面结合力是金刚石薄膜工具的重要评价指标，常用压 不能充分利用。1982年，Matsumto_1“等人使用化学气 痕法进行定性评定。最近研究结果表明_1，用鼓泡法 相沉积法 (CVD)制备出了金刚石膜，使得金刚石的优 测量金刚石膜的弹性模量、白松比、残余应力等，是一 异性能得以充分发挥，从而在全世界范围内掀起了 种非常有前途的测量金刚石薄膜力学性能的方法。 CVD金刚石膜研究热潮。我国目前也加大了对金刚石 4 CVD金刚石薄膜基体材料的