定偏心和不定偏心平面研磨均匀性的研究.pdfVIP

维普资讯 2O06年6月 金刚石与磨料磨具工程 June．2006 总第 153期 第3期 Diamond＆ AbrasivesEngineering Seria1．153 No．3 文章编号：1006—852X(2006)03—0046一o4 定偏心和不定偏心平面研磨均匀性的研究 赵文宏 周兆忠 文东辉 衷巨龙 郑家锦 (浙江工业大学精密工程研究中心，杭州 310014) 摘 要 对修正环形抛光机定偏心和不定偏心平面研磨进行了运动分析，给出了研磨盘上一点相对于工件的速度矢量 与轨迹方程，讨论了研磨盘上不同位置的点的相对轨迹。在 Preston方程基础上，建立 了材料去除函数和研磨均匀性函 数。实验结果与理论分析表明通过设置选择适当的转速比组合，可使工件获得均匀研磨，有利于工件平面度的提高。 关键词 平面研磨；轨迹方程；均匀性 中图分类号 TG58 文献标识码 A Researchontheuniformityofcertainandunceratineccentricity planelappingprocesses ZhaoWenhong ZhouZhaozhong WenDonghuiYuanJunlong ZhengJiajin (PrecisionEngineeringCenter，ZhejiangUniversityofTechnology，Hangzhou310014，China) Abstract Kinematicanalysisforcertainanduncertaineccentricityplanelappingprocesseswiththeringpolishingmachinewere studiedandcompared，pacevectorandtrackequationaboutonepointrelativetoexma inationpieceonpolishingpadwerepresen- ted．Comparativelytrackofdifferentpositionsonthepolishingpadwagdiscussedandcarlberegardedasnickontheexamination pieceface，thematerialremovefunctionandthelappinguniformityfunctionwerededucedbasedonPrestonequation．Theoretical analysisandsimulationresultsshowthattheICwafersubstratecanbelappedunifomr ]Yandhteflatnesscouldbeimprovedbyset- ringpropervelocityratio． Keywords plna elapping；trackequation；unifomr ity 磨盘表面之上，并绕回转轴旋转，研磨液由研磨盘中心 0 前言 处加入。图2(a)所示为工件中心与研磨盘中心之问 研磨技术是重要的精密、超精密加工方法，广泛应 的距离始终不变，故称此种研磨方式为定偏心研磨。 用于功能陶瓷基片、工程陶瓷构件和光学窗E1等硬 、脆 图2(b)中研磨盘以角速度 (￡J绕垂直于研磨盘平面 材料的加工，使工件获得优良的尺寸精度、几何精度和 (纸面)的轴 O旋转，工件在以角速度 (￡J绕轴 O 自转