Cimatron广州公司应邀参加第三届“全国模具数控人才培养校企合作论坛与供需洽谈会”.pdfVIP

模具工业 2011年第37卷第2期 外力影响产生变形而使薄膜剥离。但一般钢铁材料，氨化处理后其表面生成化合物层 (三相 ／Fe )，此化合 物硬且脆弱，在其上涂覆硬质薄膜难以发挥复合硬化处理的效果，必须将此化合物磨去再进行PCD、等离子 CVD处理，要增加研磨工序，影响生产成本和交货期。为此，日本电子工业株式会社开发了精细氮化或过激 氮化等不形成化合物层的光亮氮化和硬质薄膜复合硬化处理方法，再加上直流等离子CVD法形成DI_C．SI 膜，研发出了称之为 卜)c涂膜技术的新的DI．C涂膜技术。NIK)C涂膜是将等离子光亮氮化和DI．~SI膜复 合硬化处理放在同一炉内连续处理而生成的，交货期、成本、耐久性等问题都可解决，因而在冲模上广为采 用。过激氮化是一种新的等离子氮化法，是将氨和氢的混合气体作为保护气体，利用直流辉光放电生成的高 的过激 (活性化)进行氨化。这种氮化对模具表面粗糙度不产生影响，没有化合物层的氮化组织，因而氨化后 不需要对模具表面进行研磨加工，即可进行PVD或等离子CVD硬质薄膜成膜处理。 O 涂膜的成膜温度 300～600℃，比一般DLC工艺成膜温度稍高，表面硬度2000--2500H 膜厚3～5-／tm，最厚可到 10‰摩擦 因数与Tdq膜、CAq膜的0．50～0．55相比，仅为0．05，非常低。 涂膜不仅可提高模